一种用于半导体晶圆清洗的烘干装置

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202421522498.3
申请日
2024-07-01
公开(公告)号
CN222925859U
公开(公告)日
2025-05-30
发明(设计)人
刘煜昆 郭明灿
申请人
潍坊明哲智能科技有限公司
申请人地址
261000 山东省潍坊市高新区新城街道玉清社区玉清东街以北中心次干道以西高新大厦1211室
IPC主分类号
F26B5/12
IPC分类号
F26B25/00 B08B3/04
代理机构
烟台炳诚专利代理事务所(普通合伙) 37258
代理人
韩志方
法律状态
授权
国省代码
山东省 潍坊市
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共 50 条
[1]
用于半导体晶圆清洗的烘干装置 [P]. 
钱诚 ;
李刚 ;
李涛 ;
朱震 .
中国专利 :CN214620345U ,2021-11-05
[2]
用于半导体晶圆清洗的烘干装置 [P]. 
钱诚 ;
李刚 ;
李涛 ;
朱震 .
中国专利 :CN112992734B ,2021-06-18
[3]
一种用于半导体晶圆的清洗烘干装置 [P]. 
黄自柯 ;
赵晗 ;
张雨 ;
王哲哲 ;
伍孝聪 .
中国专利 :CN120527266A ,2025-08-22
[4]
一种用于清洗半导体晶圆的清洗槽 [P]. 
厉心宇 .
中国专利 :CN204257600U ,2015-04-08
[5]
一种半导体圆晶清洗装置 [P]. 
张玉光 .
中国专利 :CN215745180U ,2022-02-08
[6]
一种半导体晶圆清洗装置 [P]. 
刘安全 ;
王鹤 .
中国专利 :CN207503923U ,2018-06-15
[7]
一种半导体晶圆槽式清洗设备的烘干装置 [P]. 
李素华 ;
李正乐 ;
袁亚鸿 ;
王善鹤 ;
刘苏伟 .
中国专利 :CN220670135U ,2024-03-26
[8]
一种高效的半导体晶圆清洗装置 [P]. 
付华秀 .
中国专利 :CN211938071U ,2020-11-17
[9]
半导体晶圆清洗装置 [P]. 
汪良恩 ;
汪曦凌 .
中国专利 :CN203862609U ,2014-10-08
[10]
用于清洗半导体晶圆的清洗槽 [P]. 
李芳 ;
陈锟 ;
朱也方 .
中国专利 :CN103871938A ,2014-06-18