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基板保持装置、基板処理装置、基板保持方法、基板処理方法、および物品製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20250020993
申请日
:
2025-02-12
公开(公告)号
:
JP7681200B1
公开(公告)日
:
2025-05-21
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/20
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
基板保持装置、基板処理装置、基板保持方法、基板処理方法、および物品製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025131525A
,2025-09-09
[2]
基板保持装置、基板処理装置、基板保持方法、基板処理方法、および物品製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025131588A
,2025-09-09
[3]
基板保持装置、基板処理装置および基板保持方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6875357B2
,2021-05-26
[4]
基板処理装置、基板保持装置、および、基板保持方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5877005B2
,2016-03-02
[5]
基板保持装置、基板処理装置および基板保持方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025127534A
,2025-09-02
[6]
基板保持装置および基板処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6067392B2
,2017-01-25
[7]
基板保持方法、基板保持装置、処理方法及び処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6568781B2
,2019-08-28
[8]
基板処理装置、基板保持装置及び基板保持方法[ja]
[P].
KUNUGI YUJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KUNUGI YUJI
;
SASAKI YOSHIHIKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
SASAKI YOSHIHIKO
;
SAITO HITOSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
SAITO HITOSHI
.
日本专利
:JP2024014680A
,2024-02-01
[9]
基板保持装置、基板処理装置、物品製造方法、および制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025173876A
,2025-11-28
[10]
基板保持装置、基板処理装置、基板処理方法、および記録媒体[ja]
[P].
日本专利
:JP2025010729A
,2025-01-23
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