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照射装置及び生成物の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230197814
申请日
:
2023-11-22
公开(公告)号
:
JP2025084159A
公开(公告)日
:
2025-06-03
发明(设计)人
:
KUBOTA TAKAYUKI
KURODA YASUSHIGE
OKUBO TAKAHIRO
申请人
:
DAIWA HOUSE IND
UNIV OKAYAMA
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01J19/12
IPC分类号
:
B01J35/39
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[21]
照射装置及び造形物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7192820B2
,2022-12-20
[22]
鉱物塩の製造方法及び鉱物塩生成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2016504025A
,2016-02-12
[23]
触媒活性生成物及びそのような触媒活性生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024526373A
,2024-07-17
[24]
触媒活性生成物及びそのような触媒活性生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7743621B2
,2025-09-24
[25]
接触酸化方法、酸化脱水素反応生成物の製造方法、及び酸化反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7207295B2
,2023-01-18
[26]
重縮合生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5638153B2
,2014-12-10
[27]
1価CCAP生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7680745B2
,2025-05-21
[28]
配線基板の製造方法及び中間生成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2023005240A
,2023-01-18
[29]
処理装置、分解生成物の製造方法、及び処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7399209B2
,2023-12-15
[30]
転写生成物、転写生成物の製造方法、転写生成物の配置位置特定方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007043470A1
,2009-04-16
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