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半导体装置及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110356993.6
申请日
:
2021-04-01
公开(公告)号
:
CN113270473B
公开(公告)日
:
2025-06-24
发明(设计)人
:
陈亭纲
林宛娴
王捷平
黄泰钧
徐志安
申请人
:
台湾积体电路制造股份有限公司
申请人地址
:
中国台湾新竹市
IPC主分类号
:
H10D62/10
IPC分类号
:
H10D30/62
H10D30/01
H10D64/27
H10D84/85
代理机构
:
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
:
黄艳
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-06-24
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体装置及其形成方法
[P].
陈亭纲
论文数:
0
引用数:
0
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0
陈亭纲
;
林宛娴
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林宛娴
;
王捷平
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王捷平
;
黄泰钧
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黄泰钧
;
徐志安
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0
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0
徐志安
.
中国专利
:CN113270473A
,2021-08-17
[2]
半导体装置及其形成方法
[P].
李香寰
论文数:
0
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李香寰
;
李明翰
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李明翰
;
叶名世
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叶名世
;
余振华
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余振华
.
中国专利
:CN101521175A
,2009-09-02
[3]
半导体装置及其形成方法
[P].
郑咏世
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
郑咏世
.
中国专利
:CN120709230A
,2025-09-26
[4]
半导体装置及其形成方法
[P].
周英凯
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周英凯
;
陈立哲
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陈立哲
;
刘兴潮
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刘兴潮
.
中国专利
:CN107437525B
,2017-12-05
[5]
半导体装置结构及其形成方法
[P].
陈瑞麟
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈瑞麟
;
连崇德
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
连崇德
;
林诗哲
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林诗哲
;
黄志翔
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
黄志翔
;
杨复凯
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
杨复凯
;
洪连嵘
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
洪连嵘
.
中国专利
:CN120500104A
,2025-08-15
[6]
半导体装置及其形成方法
[P].
陈柏安
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机构:
新唐科技股份有限公司
新唐科技股份有限公司
陈柏安
.
中国专利
:CN120435054A
,2025-08-05
[7]
半导体装置及其形成方法
[P].
蔡易锜
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机构:
华邦电子股份有限公司
华邦电子股份有限公司
蔡易锜
.
中国专利
:CN120825932A
,2025-10-21
[8]
半导体装置的形成方法
[P].
林翔伟
论文数:
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林翔伟
.
中国专利
:CN109585296A
,2019-04-05
[9]
半导体装置的形成方法
[P].
陈婷婷
论文数:
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陈婷婷
;
何彩蓉
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何彩蓉
;
葛宗翰
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葛宗翰
;
郑雅如
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郑雅如
;
彭辞修
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彭辞修
;
王振翰
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王振翰
;
梁顺鑫
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梁顺鑫
;
上野哲嗣
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上野哲嗣
;
林耕竹
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林耕竹
.
中国专利
:CN114823515A
,2022-07-29
[10]
半导体装置的形成方法
[P].
黄彦钧
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黄彦钧
;
唐邦泰
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唐邦泰
;
彭治棠
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彭治棠
;
黄泰钧
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黄泰钧
.
中国专利
:CN108987253A
,2018-12-11
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