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曝光系统及电子器件的制造方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202280101662.0
申请日：
2022-12-20
公开(公告)号：
CN120153322A
公开(公告)日：
2025-06-13
发明(设计)人：
藤井光一
申请人：
极光先进雷射株式会社
申请人地址：
日本栃木县
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
朱丽娟
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-06-13 公开 公开
2025-11-21 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20221220
共 50 条
[1]
曝光系统和电子器件的制造方法 [P]. 
藤井光一 ;
若林理 .
日本专利 :CN115039033B ,2025-12-16
[2]
曝光系统和电子器件的制造方法 [P]. 
藤井光一 ;
若林理 .
中国专利 :CN115039033A ,2022-09-09
[3]
曝光装置、曝光方法及电子器件的制造方法 [P]. 
加藤正纪 ;
水野仁 ;
水野恭志 .
日本专利 :CN117581162A ,2024-02-20
[4]
曝光方法、曝光系统和电子器件的制造方法 [P]. 
藤井光一 ;
若林理 ;
大贺敏浩 .
中国专利 :CN115104064A ,2022-09-23
[5]
曝光系统、激光控制参数的生成方法和电子器件的制造方法 [P]. 
藤井光一 ;
若林理 .
中国专利 :CN115023657A ,2022-09-06
[6]
曝光系统、激光控制参数的生成方法和电子器件的制造方法 [P]. 
藤井光一 ;
若林理 .
日本专利 :CN115023657B ,2025-12-16
[7]
曝光系统、激光控制参数的生成方法和电子器件的制造方法 [P]. 
藤井光一 ;
若林理 .
中国专利 :CN115039032A ,2022-09-09
[8]
曝光方法及电子器件制造方法 [P]. 
白石直正 ;
井上英也 .
中国专利 :CN101652719A ,2010-02-17
[9]
曝光装置、曝光方法和电子器件制造方法 [P]. 
井上英也 ;
白石直正 .
中国专利 :CN101652720A ,2010-02-17
[10]
曝光方法和电子器件制造方法 [P]. 
木内彻 ;
白石直正 ;
井上英也 .
中国专利 :CN101681118A ,2010-03-24
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