一种一步实现层状氧化物插层剥离制备大尺寸单层纳米片的方法

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专利类型
发明
申请号
CN202411182849.5
申请日
2024-08-27
公开(公告)号
CN119059553B
公开(公告)日
2025-07-11
发明(设计)人
蔡兴科 李晨熠 刘威
申请人
深圳大学
申请人地址
518060 广东省深圳市南山区粤海街道南海大道3688号
IPC主分类号
C01G23/00
IPC分类号
C01G51/00 B82Y40/00
代理机构
北京盛询知识产权代理有限公司 11901
代理人
张影
法律状态
实质审查的生效
国省代码
广东省 佛山市
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共 50 条
[1]
一种一步实现层状氧化物插层剥离制备大尺寸单层纳米片的方法 [P]. 
蔡兴科 ;
李晨熠 ;
刘威 .
中国专利 :CN119059553A ,2024-12-03
[2]
一种超声剥离氧化物纳米片的方法 [P]. 
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祁宏祥 .
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[3]
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[4]
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[6]
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[7]
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[8]
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汤占先 ;
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[10]
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田正山 ;
曹可生 ;
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理记涛 .
中国专利 :CN107720825A ,2018-02-23