面曝光激光直写系统及方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510656138.5

申请日：

2025-05-21

公开(公告)号：

CN120295066A

公开(公告)日：

2025-07-11

发明(设计)人：

黄婷戴威

申请人：

北京工业大学

申请人地址：

100124 北京市朝阳区平乐园100号

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司 11002

代理人：

杨龙钰

法律状态：

公开

国省代码：

北京市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-11	公开	公开
2025-07-29	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20250521

共 50 条

[1]

激光直写曝光系统 [P].

陈铁玉 ;

王章 ;

欧志朋 .

中国专利 :CN118567197A ,2024-08-30

[2]

基于受激光发射损耗的激光直写曝光装置 [P].

朱菁 ;

黄惠杰 ;

杨宝喜 ;

宋强 ;

张方 ;

王健 ;

陈明 ;

李璟 .

中国专利 :CN103777473B ,2014-05-07

[3]

激光直写方法、控制设备及激光直写系统 [P].

朱鹏飞 ;

浦东林 ;

张瑾 ;

朱鸣 ;

邵仁锦 ;

王钦华 ;

徐顺达 ;

周文辉 ;

陈林森 .

中国专利 :CN118057242A ,2024-05-21

[4]

激光直写方法、控制设备及激光直写系统 [P].

朱鹏飞 ;

浦东林 ;

张瑾 ;

朱鸣 ;

邵仁锦 ;

王钦华 ;

徐顺达 ;

周文辉 ;

陈林森 .

中国专利 :CN118057242B ,2024-12-10

[5]

一种无掩膜激光直写叠加曝光方法 [P].

朱鹏飞 ;

陈林森 ;

胡进 ;

浦东林 ;

袁晓峰 .

中国专利 :CN104298080B ,2015-01-21

[6]

激光直写曝光设备 [P].

肖燕青 ;

郑旭维 ;

陈海巍 .

中国专利 :CN306570828S ,2021-05-28

[7]

激光直写曝光机 [P].

周来军 .

中国专利 :CN218068566U ,2022-12-16

[8]

激光直写曝光设备 [P].

徐彦文 ;

陈海巍 ;

王方江 .

中国专利 :CN307706724S ,2022-12-02

[9]

光学装置及飞秒激光直写系统 [P].

史长坤 ;

金贤敏 .

中国专利 :CN221040527U ,2024-05-28

[10]

无掩模激光直写系统及无掩模激光直写方法 [P].

陈大鹏 ;

傅剑宇 .

中国专利 :CN112764323A ,2021-05-07

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