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一种氮化硅沉积炉管

被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202421647271.1
申请日：
2024-07-12
公开(公告)号：
CN223047583U
公开(公告)日：
2025-07-01
发明(设计)人：
蒋小波 宋红利
申请人：
河南宏宇陶瓷材料有限公司
申请人地址：
450000 河南省郑州市巩义市站街镇鲁村村
IPC主分类号：
C23C14/56
IPC分类号：
C23C14/06 C23C16/44 C23C16/34
代理机构：
河南万石专利代理有限公司 41238
代理人：
邓鹏
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-07-01 授权 授权
共 50 条
[1]
氮化硅沉积炉管 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN208517524U ,2019-02-19
[2]
一种氮化硅炉管设备 [P]. 
不公告发明人 .
中国专利 :CN208776836U ,2019-04-23
[3]
氮化硅膜沉积设备 [P]. 
解占壹 ;
刘海金 ;
刘伟 .
中国专利 :CN202830165U ,2013-03-27
[4]
沉积氮化硅的方法 [P]. 
L·C·卡鲁塔拉格 ;
M·J·萨利 ;
P·P·杰哈 ;
梁璟梅 .
中国专利 :CN113330141A ,2021-08-31
[5]
氮化硅薄膜沉积方法 [P]. 
俞锦辰 ;
胡正军 ;
钟晓兰 .
中国专利 :CN119020749A ,2024-11-26
[6]
一种氮化硅膜沉积方法 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN120006256A ,2025-05-16
[7]
平板氮化硅薄膜PECVD沉积系统 [P]. 
奚建平 ;
周子彬 .
中国专利 :CN201195747Y ,2009-02-18
[8]
一种晶圆加工用低应力氮化硅沉积炉管及沉积方法 [P]. 
李军 ;
余梦 ;
赵辉 ;
翟悟名 ;
彭定勇 ;
罗栋 .
中国专利 :CN119040857B ,2025-03-21
[9]
一种晶圆加工用低应力氮化硅沉积炉管及沉积方法 [P]. 
李军 ;
余梦 ;
赵辉 ;
翟悟名 ;
彭定勇 ;
罗栋 .
中国专利 :CN119040857A ,2024-11-29
[10]
一种氮化硅喷雾系统 [P]. 
蒋小波 ;
宋红利 .
中国专利 :CN223288266U ,2025-09-02
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