一种掩膜辅助光子晶体阵列制备的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202510567488.4
申请日
2025-04-30
公开(公告)号
CN120255269A
公开(公告)日
2025-07-04
发明(设计)人
张彤 陈琳 王智勇 袁艳萍
申请人
北京工业大学
申请人地址
100124 北京市朝阳区平乐园100号
IPC主分类号
G03F7/00
IPC分类号
G02B1/00 G03F7/20
代理机构
北京汇信合知识产权代理有限公司 11335
代理人
林聪源
法律状态
实质审查的生效
国省代码
北京市 市辖区
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共 50 条
[1]
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