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一种高激光损伤阈值熔石英元件的后处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202211541567.0
申请日
:
2022-12-02
公开(公告)号
:
CN116177891B
公开(公告)日
:
2025-07-25
发明(设计)人
:
黎波
向霞
邓洪祥
冯青屹
祖小涛
申请人
:
电子科技大学长三角研究院(湖州)
申请人地址
:
313000 浙江省湖州市西塞山路819号南太湖科技创新综合体B2幢8层
IPC主分类号
:
C03C15/00
IPC分类号
:
C03C23/00
C03B25/00
C03B20/00
代理机构
:
北京金智普华知识产权代理有限公司 11401
代理人
:
郭美
法律状态
:
授权
国省代码
:
江苏省 常州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-07-25
授权
授权
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[1]
提升熔石英元件损伤阈值的后处理方法
[P].
蔡超
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蔡超
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尹良君
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尹良君
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刘蕴霞
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刘蕴霞
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戴红玲
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戴红玲
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何祥
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何祥
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黄金勇
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黄金勇
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王刚
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王刚
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胡庆
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胡庆
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赵恒
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赵恒
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杨佳
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杨佳
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陈思洁
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陈思洁
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李瑞洁
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李瑞洁
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鄢定尧
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鄢定尧
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马平
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马平
.
中国专利
:CN113248121A
,2021-08-13
[2]
一种提升熔石英元件损伤阈值的激光清洗方法
[P].
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魏朝阳
;
韩宜池
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中国科学院上海光学精密机械研究所
中国科学院上海光学精密机械研究所
韩宜池
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万嵩林
;
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彭小聪
;
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机构:
邵建达
.
中国专利
:CN117046851B
,2025-08-12
[3]
一种提升熔石英元件激光损伤阈值的表面处理工艺
[P].
何洪途
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西南科技大学
西南科技大学
何洪途
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孙来喜
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西南科技大学
西南科技大学
孙来喜
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郑天然
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西南科技大学
西南科技大学
郑天然
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余家欣
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西南科技大学
西南科技大学
余家欣
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刘新祺
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西南科技大学
西南科技大学
刘新祺
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邹蕊矫
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西南科技大学
西南科技大学
邹蕊矫
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王方
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西南科技大学
西南科技大学
王方
;
李青山
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西南科技大学
西南科技大学
李青山
.
中国专利
:CN116462419B
,2025-05-13
[4]
提升熔石英光学元件损伤阈值的后处理方法
[P].
叶鑫
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叶鑫
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蒋晓东
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蒋晓东
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黄进
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黄进
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刘红婕
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刘红婕
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孙来喜
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孙来喜
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李青芝
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李青芝
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王凤蕊
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王凤蕊
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周晓燕
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周晓燕
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耿锋
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耿锋
.
中国专利
:CN105481259A
,2016-04-13
[5]
一种提升抗激光损伤能力的熔石英元件表面联合处理方法
[P].
孙来喜
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
孙来喜
;
何洪途
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心
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何洪途
;
邹蕊矫
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
邹蕊矫
;
刘新祺
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心
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刘新祺
;
余家欣
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心
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余家欣
;
郑天然
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心
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郑天然
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王方
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心
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王方
;
李青山
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
李青山
.
中国专利
:CN116462418B
,2025-05-16
[6]
一种提升石英元件激光损伤阈值的方法
[P].
向霞
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向霞
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罗韦媛
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罗韦媛
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黎波
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黎波
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祖小涛
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祖小涛
.
中国专利
:CN113087413A
,2021-07-09
[7]
一种湿法-干法刻蚀结合提升熔石英元件阈值的表面处理方法
[P].
祖小涛
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祖小涛
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向霞
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向霞
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晏中华
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晏中华
.
中国专利
:CN103922601A
,2014-07-16
[8]
提升熔石英元件损伤阈值的加工方法
[P].
陈军
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陈军
;
程鑫
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程鑫
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吴伦哲
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吴伦哲
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徐学科
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徐学科
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魏朝阳
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魏朝阳
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邵建达
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邵建达
.
中国专利
:CN114149180A
,2022-03-08
[9]
一种提升熔石英光学元件损伤阈值的方法
[P].
叶鑫
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叶鑫
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蒋晓东
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蒋晓东
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黄进
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黄进
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刘红婕
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刘红婕
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孙来喜
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孙来喜
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周信达
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周信达
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王凤蕊
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王凤蕊
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周晓燕
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周晓燕
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耿锋
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耿锋
.
中国专利
:CN103449731A
,2013-12-18
[10]
一种具有光滑表面和高损伤阈值熔石英元件的加工方法
[P].
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机构:
陈军
;
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机构:
程鑫
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机构:
王林
;
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机构:
顿爱欢
;
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机构:
徐学科
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机构:
邵建达
.
中国专利
:CN116750980B
,2025-06-13
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