光刻胶及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202412000501.6

申请日：

2024-12-31

公开(公告)号：

CN120406045A

公开(公告)日：

2025-08-01

发明(设计)人：

张哲于洪超高晓义

申请人：

苏州凯芯半导体材料有限公司

申请人地址：

215634 江苏省苏州市张家港保税区港澳路15号传感产业园大楼一楼113室

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/00 G03F7/027

代理机构：

北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138

代理人：

朱二敏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-08-19	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20241231
2025-08-01	公开	公开

共 50 条

[1]

树脂及其制备方法、光刻胶、光刻方法 [P].

王辉 ;

廖辉华 ;

宋智辉 ;

康报虹 .

中国专利 :CN115521392A ,2022-12-27

[2]

UV光刻胶、UV光刻胶制备方法及透镜阵列制备方法 [P].

廖立瑜 ;

游伴奏 ;

董超 ;

宋玉 ;

俞朝晖 .

中国专利 :CN112346299A ,2021-02-09

[3]

光刻胶及其制备方法 [P].

陈黎暄 .

中国专利 :CN108089400B ,2018-05-29

[4]

光刻胶及其制备方法 [P].

龚文亮 .

中国专利 :CN109283793B ,2019-01-29

[5]

一种光刻胶组合物及光刻胶 [P].

赵明 ;

张晶晶 ;

刘瑶 ;

李琳 ;

胡登峰 .

中国专利 :CN114415469A ,2022-04-29

[6]

一种光刻胶组合物及光刻胶 [P].

赵明 ;

张晶晶 ;

刘瑶 ;

李琳 ;

胡登峰 .

中国专利 :CN114415469B ,2024-06-11

[7]

正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法、光刻工艺 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN114460810A ,2022-05-10

[8]

光刻胶及其制备方法与应用 [P].

周徐 ;

徐国强 ;

黄耀鹏 ;

徐海生 .

中国专利 :CN105573057A ,2016-05-11

[9]

负型光刻胶树脂及其制备方法和负型光刻胶 [P].

彭忠 ;

王卫国 ;

缪培凯 ;

凌云剑 ;

符饶生 ;

杨波 ;

吕国强 ;

李平 .

中国专利 :CN112011031B ,2020-12-01

[10]

一种光刻胶树脂、制备方法及光刻胶 [P].

纪学顺 ;

蒋志强 ;

马吉全 .

中国专利 :CN121135937A ,2025-12-16

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