树脂及其制备方法、光刻胶、光刻方法

被引：0

申请号：

CN202211205441.6

申请日：

2022-09-29

公开(公告)号：

CN115521392A

公开(公告)日：

2022-12-27

发明(设计)人：

王辉廖辉华宋智辉康报虹

申请人：

申请人地址：

518101 广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区工业二路1号惠科工业园厂房1栋一层至三层、五至七层，6栋七层

IPC主分类号：

C08F800

IPC分类号：

C08F2000 C08G7738 G03F7004 G03F720

代理机构：

广州三环专利商标代理有限公司 44202

代理人：

杨岩

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-27	公开	公开
2023-01-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 8/00 申请日:20220929

共 50 条

[1]

一种光刻胶树脂、制备方法及光刻胶 [P].

纪学顺 ;

蒋志强 ;

马吉全 .

中国专利 :CN121135937A ,2025-12-16

[2]

正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法、光刻工艺 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN114460810A ,2022-05-10

[3]

光刻胶及其制备方法 [P].

张哲 ;

于洪超 ;

高晓义 .

中国专利 :CN120406045A ,2025-08-01

[4]

一种光刻胶树脂及其制备方法 [P].

顾大公 ;

马潇 ;

余绍山 ;

陈鹏 ;

齐国强 ;

许东升 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN112794941A ,2021-05-14

[5]

KrF光刻胶用树脂及其制备方法 [P].

方书农 ;

陈海 .

中国专利 :CN119591766A ,2025-03-11

[6]

光刻胶下层材料组合物及其制备方法、光刻胶下涂层 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN114488695A ,2022-05-13

[7]

一种正性化学放大光刻胶树脂、制备方法及光刻胶 [P].

纪学顺 ;

蒋志强 ;

马吉全 .

中国专利 :CN120775098A ,2025-10-14

[8]

光刻胶及其制备方法 [P].

陈黎暄 .

中国专利 :CN108089400B ,2018-05-29

[9]

光刻胶成膜树脂及其光刻胶组合物的制备方法 [P].

李永斌 ;

何龙龙 .

中国专利 :CN112679653B ,2021-04-20

[10]

光刻胶及其制备方法 [P].

龚文亮 .

中国专利 :CN109283793B ,2019-01-29

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