一种光刻胶树脂及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011634104.X

申请日：

2020-12-31

公开(公告)号：

CN112794941A

公开(公告)日：

2021-05-14

发明(设计)人：

顾大公马潇余绍山陈鹏齐国强许东升毛智彪许从应

申请人：

申请人地址：

315800 浙江省宁波市北仑区柴桥街道青山路21号

IPC主分类号：

C08F22028

IPC分类号：

C08F22020 G03F7004

代理机构：

深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333

代理人：

左光明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-14	公开	公开
2021-06-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 220/28 申请日:20201231

共 50 条

[1]

树脂及其制备方法、光刻胶、光刻方法 [P].

王辉 ;

廖辉华 ;

宋智辉 ;

康报虹 .

中国专利 :CN115521392A ,2022-12-27

[2]

一种光刻胶树脂、制备方法及光刻胶 [P].

纪学顺 ;

蒋志强 ;

马吉全 .

中国专利 :CN121135937A ,2025-12-16

[3]

光敏树脂、光刻胶及其制备方法、应用 [P].

黎迈俊 ;

郑爽 ;

潘锦铖 ;

吴敏铭 .

中国专利 :CN114106326A ,2022-03-01

[4]

一种光刻胶树脂及其制备方法 [P].

陈鹏 ;

马潇 ;

顾大公 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN113956392A ,2022-01-21

[5]

一种光刻胶树脂的制备方法 [P].

陈鹏 ;

马潇 ;

樊丹 ;

沈博 ;

顾大公 ;

毛智彪 ;

祝晓岚 .

中国专利 :CN109942845A ,2019-06-28

[6]

一种低缺陷的193nm光刻胶、光刻胶树脂及其制备方法 [P].

顾大公 ;

许东升 ;

余绍山 ;

齐国强 ;

岳力挽 ;

马潇 ;

李珊珊 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN112876602A ,2021-06-01

[7]

一种光刻胶树脂及其制备方法与应用 [P].

陈鹏 ;

马潇 ;

顾大公 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN114044843A ,2022-02-15

[8]

一种光刻胶树脂及其制备方法与应用 [P].

杨述瑞 ;

杨晓知 ;

马吉全 ;

王玉胜 ;

纪学顺 .

中国专利 :CN120399138A ,2025-08-01

[9]

一种光刻胶用树脂及其制备方法 [P].

杨金梁 .

中国专利 :CN120463855A ,2025-08-12

[10]

一种KrF光刻胶树脂及其制备方法 [P].

周佳俊 ;

李竞 .

中国专利 :CN120829535A ,2025-10-24

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