一种光刻胶树脂及其制备方法与应用

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202510697707.0
申请日
2025-05-28
公开(公告)号
CN120399138A
公开(公告)日
2025-08-01
发明(设计)人
杨述瑞 杨晓知 马吉全 王玉胜 纪学顺
申请人
万华化学集团股份有限公司
申请人地址
264006 山东省烟台市经济技术开发区重庆大街59号
IPC主分类号
C08F220/32
IPC分类号
C08F220/18 C08F220/54 G03F7/004
代理机构
代理人
法律状态
实质审查的生效
国省代码
安徽省 宣城市
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共 50 条
[1]
一种光刻胶树脂及其制备方法与应用 [P]. 
陈鹏 ;
马潇 ;
顾大公 ;
毛智彪 ;
许从应 .
中国专利 :CN114044843A ,2022-02-15
[2]
一种光刻胶树脂及其制备方法 [P]. 
顾大公 ;
马潇 ;
余绍山 ;
陈鹏 ;
齐国强 ;
许东升 ;
毛智彪 ;
许从应 .
中国专利 :CN112794941A ,2021-05-14
[3]
一种光刻胶树脂及其制备方法 [P]. 
陈鹏 ;
马潇 ;
顾大公 ;
毛智彪 ;
许从应 .
中国专利 :CN113956392A ,2022-01-21
[4]
一种光刻胶树脂、制备方法及光刻胶 [P]. 
纪学顺 ;
蒋志强 ;
马吉全 .
中国专利 :CN121135937A ,2025-12-16
[5]
一种KrF光刻胶树脂及其制备方法 [P]. 
周佳俊 ;
李竞 .
中国专利 :CN120829535A ,2025-10-24
[6]
光刻胶及其制备方法与应用 [P]. 
周徐 ;
徐国强 ;
黄耀鹏 ;
徐海生 .
中国专利 :CN105573057A ,2016-05-11
[7]
一种光刻胶树脂及其聚合方法 [P]. 
陈鹏 ;
卢汉林 ;
陈情丽 ;
马潇 ;
顾大公 ;
毛智彪 ;
许从应 .
中国专利 :CN113861332A ,2021-12-31
[8]
一种低缺陷的193nm光刻胶、光刻胶树脂及其制备方法 [P]. 
顾大公 ;
许东升 ;
余绍山 ;
齐国强 ;
岳力挽 ;
马潇 ;
李珊珊 ;
毛智彪 ;
许从应 .
中国专利 :CN112876602A ,2021-06-01
[9]
光敏树脂、光刻胶及其制备方法、应用 [P]. 
黎迈俊 ;
郑爽 ;
潘锦铖 ;
吴敏铭 .
中国专利 :CN114106325B ,2024-02-09
[10]
光敏树脂、光刻胶及其制备方法、应用 [P]. 
黎迈俊 ;
郑爽 ;
潘锦铖 ;
吴敏铭 .
中国专利 :CN114106326A ,2022-03-01