光刻胶下层材料组合物及其制备方法、光刻胶下涂层

被引：0

申请号：

CN202111618210.3

申请日：

2021-12-27

公开(公告)号：

CN114488695A

公开(公告)日：

2022-05-13

发明(设计)人：

王晓伟

申请人：

申请人地址：

215000 江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城12幢401-88

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

代理机构：

华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

郑元博

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-13	公开	公开
2022-05-31	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/11 申请日:20211227

共 50 条

[1]

聚合物、光刻胶、光刻胶层及光刻工艺 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN114539518A ,2022-05-27

[2]

一种光刻胶组合物及光刻胶 [P].

赵明 ;

张晶晶 ;

刘瑶 ;

李琳 ;

胡登峰 .

中国专利 :CN114415469A ,2022-04-29

[3]

光刻胶添加剂及光刻胶组合物 [P].

李青松 ;

刘永祥 ;

杨鹏 ;

韩红彦 ;

焦成成 .

中国专利 :CN119591780A ,2025-03-11

[4]

一种光刻胶组合物及光刻胶 [P].

赵明 ;

张晶晶 ;

刘瑶 ;

李琳 ;

胡登峰 .

中国专利 :CN114415469B ,2024-06-11

[5]

正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法、光刻工艺 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN114460810A ,2022-05-10

[6]

光刻胶主体材料、其制备方法及包含其的光刻胶组合物和光刻胶涂层 [P].

李嫕 ;

刘华萌 ;

于天君 ;

陈金平 ;

曾毅 .

中国专利 :CN119490443A ,2025-02-21

[7]

光刻胶组合物 [P].

俞昇濬 ;

林翼喆 ;

金昌昱 ;

姜纪旭 .

中国专利 :CN1109925C ,1998-02-18

[8]

光刻胶组合物 [P].

J·F·卡梅伦 ;

S·J·姜 ;

J·W·成 .

中国专利 :CN103076720A ,2013-05-01

[9]

光刻胶组合物 [P].

J·F·卡梅隆 .

中国专利 :CN1667510A ,2005-09-14

[10]

光刻胶组合物 [P].

李明琦 ;

E·阿恰达 ;

刘骢 ;

陈庆隆 ;

山田晋太郎 ;

C-B·徐 ;

J·玛蒂亚 .

中国专利 :CN102799068B ,2012-11-28

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