光刻胶主体材料、其制备方法及包含其的光刻胶组合物和光刻胶涂层

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411647474.5

申请日：

2024-11-18

公开(公告)号：

CN119490443A

公开(公告)日：

2025-02-21

发明(设计)人：

李嫕刘华萌于天君陈金平曾毅

申请人：

中国科学院理化技术研究所

申请人地址：

100190 北京市海淀区中关村东路29号

IPC主分类号：

C07C381/12

IPC分类号：

G03F7/038 C07D307/64 C09K11/65 C09K11/02 B82Y20/00 B82Y30/00

代理机构：

北京正理专利代理有限公司 11257

代理人：

潘登

法律状态：

公开

国省代码：

北京市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-21	公开	公开
2025-03-11	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C07C 381/12申请日:20241118

共 50 条

[1]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

[2]

光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法 [P].

朴廷敏 ;

郑斗喜 ;

李羲国 ;

尹赫敏 ;

丘冀赫 .

中国专利 :CN101281369A ,2008-10-08

[3]

光刻胶下层材料组合物及其制备方法、光刻胶下涂层 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN114488695A ,2022-05-13

[4]

光刻胶组合物 [P].

落合钢志郎 ;

福井信人 .

中国专利 :CN1230704A ,1999-10-06

[5]

光刻胶组合物 [P].

市川幸司 ;

坂本宏 ;

杉原昌子 ;

平冈崇志 .

中国专利 :CN102023482A ,2011-04-20

[6]

一种光刻胶组合物及光刻胶 [P].

赵明 ;

张晶晶 ;

刘瑶 ;

李琳 ;

胡登峰 .

中国专利 :CN114415469A ,2022-04-29

[7]

光刻胶添加剂及光刻胶组合物 [P].

李青松 ;

刘永祥 ;

杨鹏 ;

韩红彦 ;

焦成成 .

中国专利 :CN119591780A ,2025-03-11

[8]

饶夙缔 ;

陈孝贤 .

中国专利 :CN110174819B ,2019-08-27

[9]

一种光刻胶组合物及光刻胶 [P].

赵明 ;

张晶晶 ;

刘瑶 ;

李琳 ;

胡登峰 .

中国专利 :CN114415469B ,2024-06-11

[10]

光刻胶单体及其聚合物以及包含该光刻胶聚合物的光刻胶组合物 [P].

李正烈 ;

李载禹 ;

金宰贤 .

中国专利 :CN1885161A ,2006-12-27

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