有机聚硅氧烷和含有有机聚硅氧烷的化妆料

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380087428.1

申请日：

2023-12-15

公开(公告)号：

CN120418327A

公开(公告)日：

2025-08-01

发明(设计)人：

森谷浩幸小西将幸宫内大

申请人：

信越化学工业株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

C08G77/14

IPC分类号：

A61K8/894 A61Q1/00 A61Q5/00 A61Q17/04 C08G77/38 C08G77/48 C08L83/04

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

杜丽利

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-08-19	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C08G 77/14申请日:20231215
2025-08-01	公开	公开

共 50 条

[1]

有机聚硅氧烷和含有有机聚硅氧烷的化妆料 [P].

森谷浩幸 ;

小西将幸 ;

安部拓矢 .

日本专利 :CN121219345A ,2025-12-26

[2]

有机聚硅氧烷及其制造方法、含有机聚硅氧烷的化妆材料 [P].

森谷浩幸 .

中国专利 :CN103319720A ,2013-09-25

[3]

有机聚硅氧烷 [P].

福原和久 ;

神馆隆史 ;

北田加代子 ;

上山健一 ;

江原雅宜 .

中国专利 :CN101686915B ,2010-03-31

[4]

有机聚硅氧烷 [P].

福原和久 ;

多田清竹 ;

神馆隆史 ;

小原周一郎 ;

手岛典子 .

中国专利 :CN102597064A ,2012-07-18

[5]

有机聚硅氧烷 [P].

崔范圭 ;

高敏镇 ;

文明善 ;

郑宰昊 ;

姜大昊 ;

金珉均 ;

赵炳奎 .

中国专利 :CN104066770B ,2014-09-24

[6]

有机聚硅氧烷、化妆品及有机聚硅氧烷的制备方法 [P].

龟井正直 .

中国专利 :CN109071822B ,2018-12-21

[7]

有机基聚硅氧烷和含有前述有机基聚硅氧烷的可固化聚硅氧烷组合物 [P].

森田好次 ;

植木浩 ;

一色实 .

中国专利 :CN101035839B ,2007-09-12

[8]

有机聚硅氧烷、分散体和化妆料 [P].

安部拓矢 ;

小西将幸 .

日本专利 :CN120958066A ,2025-11-14

[9]

含有机聚硅氧烷的消泡剂制剂 [P].

克里斯托夫·布莱姆 ;

维利巴尔德·布格尔 ;

伊丽莎白·赫尔茨尔维默尔 ;

马丁纳·约阿希姆鲍尔 .

中国专利 :CN104284704A ,2015-01-14

[10]

液体有机聚硅氧烷 [P].

H·阿克曼 .

中国专利 :CN1944493A ,2007-04-11

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