含有机聚硅氧烷的消泡剂制剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201380024325.7

申请日：

2013-04-30

公开(公告)号：

CN104284704A

公开(公告)日：

2015-01-14

发明(设计)人：

克里斯托夫·布莱姆维利巴尔德·布格尔伊丽莎白·赫尔茨尔维默尔马丁纳·约阿希姆鲍尔

申请人：

申请人地址：

德国慕尼黑

IPC主分类号：

B01D1904

IPC分类号：

C08G7750 C08L8314

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人：

余刚;张英

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-02-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101598159571 IPC(主分类):B01D 19/04 专利申请号:2013800243257 申请日:20130430
2015-01-14	公开	公开
2016-02-10	授权	授权

共 50 条

[1]

有机聚硅氧烷和含有有机聚硅氧烷的化妆料 [P].

森谷浩幸 ;

小西将幸 ;

安部拓矢 .

日本专利 :CN121219345A ,2025-12-26

[2]

含有有机聚硅氧烷的消泡剂配制物 [P].

M·格兰德尔 ;

C·德克特 ;

E·赫茨尔维默尔 ;

C·扎格 ;

J·维默尔 .

中国专利 :CN112312987B ,2021-02-02

[3]

包含有机聚硅氧烷的消泡制剂 [P].

马库斯·格郎德 ;

克里斯托弗·德克特 ;

伊丽莎白·赫茨尔维默 ;

科琳娜·扎格 ;

约瑟夫·维默尔 .

中国专利 :CN112334207B ,2021-02-05

[4]

有机聚硅氧烷及其制造方法、含有机聚硅氧烷的化妆材料 [P].

森谷浩幸 .

中国专利 :CN103319720A ,2013-09-25

[5]

有机聚硅氧烷和含有有机聚硅氧烷的化妆料 [P].

森谷浩幸 ;

小西将幸 ;

宫内大 .

日本专利 :CN120418327A ,2025-08-01

[6]

包含有机聚硅氧烷的消泡制剂 [P].

M·格兰德尔 ;

C·德克特 ;

E·赫茨尔维默尔 ;

C·扎格 ;

J·维默尔 .

中国专利 :CN112334206B ,2021-02-05

[7]

有机聚硅氧烷 [P].

福原和久 ;

多田清竹 ;

神馆隆史 ;

小原周一郎 ;

手岛典子 .

中国专利 :CN102597064A ,2012-07-18

[8]

有机聚硅氧烷、化妆品及有机聚硅氧烷的制备方法 [P].

龟井正直 .

中国专利 :CN109071822B ,2018-12-21

[9]

聚硅氧烷消泡剂 [P].

V·温特迈尔 ;

G·W·让基 ;

M·苏塞贝克 ;

M·库莱萨 ;

D·莱特费尔德 .

中国专利 :CN111182955A ,2020-05-19

[10]

有机基聚硅氧烷和含有前述有机基聚硅氧烷的可固化聚硅氧烷组合物 [P].

森田好次 ;

植木浩 ;

一色实 .

中国专利 :CN101035839B ,2007-09-12

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