包含有机聚硅氧烷的消泡制剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880094665.X

申请日：

2018-11-28

公开(公告)号：

CN112334206B

公开(公告)日：

2021-02-05

发明(设计)人：

M·格兰德尔 C·德克特 E·赫茨尔维默尔 C·扎格 J·维默尔

申请人：

申请人地址：

德国慕尼黑

IPC主分类号：

B01D1904

IPC分类号：

C11D300 C11D304 C11D337 D21H2112 D21C328

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

彭丽丹;过晓东

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-02-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B01D 19/04 申请日:20181128
2021-02-05	公开	公开
2022-06-28	授权	授权

共 50 条

[1]

包含有机聚硅氧烷的消泡制剂 [P].

马库斯·格郎德 ;

克里斯托弗·德克特 ;

伊丽莎白·赫茨尔维默 ;

科琳娜·扎格 ;

约瑟夫·维默尔 .

中国专利 :CN112334207B ,2021-02-05

[2]

包含有机聚硅氧烷的消泡制剂 [P].

克里斯托夫·布莱姆 ;

维利巴尔德·布格尔 ;

沃尔夫冈·齐凯 .

中国专利 :CN109689178A ,2019-04-26

[3]

含有机聚硅氧烷的消泡剂制剂 [P].

克里斯托夫·布莱姆 ;

维利巴尔德·布格尔 ;

伊丽莎白·赫尔茨尔维默尔 ;

马丁纳·约阿希姆鲍尔 .

中国专利 :CN104284704A ,2015-01-14

[4]

有机聚硅氧烷和含有有机聚硅氧烷的化妆料 [P].

森谷浩幸 ;

小西将幸 ;

安部拓矢 .

日本专利 :CN121219345A ,2025-12-26

[5]

有机聚硅氧烷和含有有机聚硅氧烷的化妆料 [P].

森谷浩幸 ;

小西将幸 ;

宫内大 .

日本专利 :CN120418327A ,2025-08-01

[6]

用于使水性体系消泡的有机聚硅氧烷 [P].

W·诺特 ;

S·西尔伯 ;

K·莱曼 ;

M·卢埃格尔 .

中国专利 :CN101104689A ,2008-01-16

[7]

有机聚硅氧烷及其制造方法、含有机聚硅氧烷的化妆材料 [P].

森谷浩幸 .

中国专利 :CN103319720A ,2013-09-25

[8]

含有有机聚硅氧烷的消泡剂配制物 [P].

M·格兰德尔 ;

C·德克特 ;

E·赫茨尔维默尔 ;

C·扎格 ;

J·维默尔 .

中国专利 :CN112312987B ,2021-02-02

[9]

有机聚硅氧烷 [P].

福原和久 ;

神馆隆史 ;

北田加代子 ;

上山健一 ;

江原雅宜 .

中国专利 :CN101686915B ,2010-03-31

[10]

有机聚硅氧烷 [P].

福原和久 ;

多田清竹 ;

神馆隆史 ;

小原周一郎 ;

手岛典子 .

中国专利 :CN102597064A ,2012-07-18

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