放射性同位体の製造のための標的物質の精製[ja]

被引：0

申请号：

JP20240574579

申请日：

2023-06-23

公开(公告)号：

JP2025520573A

公开(公告)日：

2025-07-03

发明(设计)人：

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IPC主分类号：

G21G4/08

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共 50 条

[1]

放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7407097B2 ,2023-12-28

[2]

放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7426327B2 ,2024-02-01

[3]

放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019088113A1 ,2020-11-12

[4]

放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7185930B2 ,2022-12-08

[5]

放射性同位体製造のための連続標的システムと方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025538429A ,2025-11-28

[6]

放射性同位体の製造方法及び製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7788987B2 ,2025-12-19

[7]

放射性同位体の製造方法及び製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025001881A ,2025-01-09

[8]

放射性同位体の製造方法及び製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7781735B2 ,2025-12-08

[9]

放射性同位体の製造方法及び製造装置[ja] [P].

YUHARA MASARU ;

MIYAMOTO MASAYA ;

OKABE HIROSHI .

日本专利 :JP2024081254A ,2024-06-18

[10]

放射性同位体の生成[ja] [P].

日本专利 :JP2025540081A ,2025-12-11

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