晶圆层析成像的在线几何校正方法及装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202510855144.3
申请日
2025-06-25
公开(公告)号
CN120355810A
公开(公告)日
2025-07-22
发明(设计)人
请求不公布姓名 请求不公布姓名 请求不公布姓名 请求不公布姓名 请求不公布姓名 请求不公布姓名 请求不公布姓名 请求不公布姓名 请求不公布姓名
申请人
深圳市埃芯半导体科技有限公司
申请人地址
518000 广东省深圳市龙华区观澜街道库坑社区库坑观光路1310号101
IPC主分类号
G06T11/00
IPC分类号
G06T5/80 G06T5/77 G06T5/50 G06T7/60 G06T17/00 G06T7/73 G06T7/246
代理机构
深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414
代理人
丁月蓉
法律状态
公开
国省代码
广东省 深圳市
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共 50 条
[1]
晶圆层析成像的在线几何校正方法及装置 [P]. 
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中国专利 :CN120355810B ,2025-09-05
[2]
几何校正方法及装置 [P]. 
傅东宁 ;
刘宇 ;
张新 ;
何峰 ;
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[3]
X射线成像设备的几何校正方法及装置 [P]. 
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中国专利 :CN111544020A ,2020-08-18
[4]
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亚历山大.S.罗斯 ;
布鲁斯.C.C.安穆 ;
高子仁 ;
谭伟 .
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[5]
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王东琳 ;
杨坤 ;
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[6]
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李培明 ;
冯泽元 ;
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[7]
层析成像方法和装置 [P]. 
R.肖恩马克斯 ;
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[8]
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孔明明 ;
李冬东 ;
赵辉 .
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[9]
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杨孝全 ;
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[10]
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李凯 ;
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赵光耀 ;
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