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半导体处理装置和半导体处理系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510540002.8
申请日
:
2021-09-14
公开(公告)号
:
CN120497194A
公开(公告)日
:
2025-08-15
发明(设计)人
:
温子瑛
申请人
:
无锡华瑛微电子技术有限公司
申请人地址
:
214131 江苏省无锡市新区震泽路18号无锡(国家)软件园鲸鱼座A栋1楼
IPC主分类号
:
H01L21/687
IPC分类号
:
H01L21/67
H01L21/68
H01L21/306
代理机构
:
苏州简理知识产权代理有限公司 32371
代理人
:
庞聪雅
法律状态
:
公开
国省代码
:
江苏省 无锡市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-08-15
公开
公开
2025-09-02
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/687申请日:20210914
共 50 条
[1]
半导体处理装置、半导体处理系统和半导体边缘处理方法
[P].
温子瑛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
无锡华瑛微电子技术有限公司
无锡华瑛微电子技术有限公司
温子瑛
.
中国专利
:CN114188265B
,2025-06-17
[2]
半导体处理装置、半导体处理系统和半导体边缘处理方法
[P].
温子瑛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
温子瑛
.
中国专利
:CN114188265A
,2022-03-15
[3]
半导体处理装置和半导体处理系统
[P].
温子瑛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
无锡华瑛微电子技术有限公司
无锡华瑛微电子技术有限公司
温子瑛
.
中国专利
:CN116844993B
,2025-07-15
[4]
半导体处理装置、半导体处理系统和半导体边缘定位方法
[P].
温子瑛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
无锡华瑛微电子技术有限公司
无锡华瑛微电子技术有限公司
温子瑛
.
中国专利
:CN116844991B
,2025-09-02
[5]
半导体处理系统及其半导体处理方法
[P].
温子瑛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
无锡华瑛微电子技术有限公司
无锡华瑛微电子技术有限公司
温子瑛
.
中国专利
:CN119920719A
,2025-05-02
[6]
半导体处理系统和半导体处理方法
[P].
曹志明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
曹志明
;
赖佶甫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
赖佶甫
.
中国专利
:CN119965081A
,2025-05-09
[7]
半导体元件处理系统、半导体元件处理装置及半导体元件处理方法
[P].
刘晏宏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘晏宏
;
陈鸿文
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈鸿文
;
陈哲夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈哲夫
.
中国专利
:CN110098136B
,2019-08-06
[8]
流体处理装置和半导体处理系统
[P].
温子瑛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
温子瑛
.
中国专利
:CN216879063U
,2022-07-05
[9]
气体处理装置、半导体处理系统
[P].
周维
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
格科半导体(上海)有限公司
格科半导体(上海)有限公司
周维
;
吴正鹏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
格科半导体(上海)有限公司
格科半导体(上海)有限公司
吴正鹏
;
王海平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
格科半导体(上海)有限公司
格科半导体(上海)有限公司
王海平
.
中国专利
:CN221788714U
,2024-10-01
[10]
半导体处理系统
[P].
许嘉毓
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
拓荆科技股份有限公司
拓荆科技股份有限公司
许嘉毓
;
野沢俊久
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
拓荆科技股份有限公司
拓荆科技股份有限公司
野沢俊久
;
关帅
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
拓荆科技股份有限公司
拓荆科技股份有限公司
关帅
;
邱大益
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
拓荆科技股份有限公司
拓荆科技股份有限公司
邱大益
.
中国专利
:CN117512561A
,2024-02-06
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