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等离子体射流设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202480006737.6
申请日
:
2024-01-03
公开(公告)号
:
CN120677840A
公开(公告)日
:
2025-09-19
发明(设计)人
:
A·卢梭
J·优素福
申请人
:
巴黎综合理工大学
国家科研中心
索邦大学
申请人地址
:
法国
IPC主分类号
:
H05H1/24
IPC分类号
:
代理机构
:
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人
:
郭思宇
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-10-10
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H05H 1/24申请日:20240103
2025-09-19
公开
公开
共 50 条
[1]
一种大气压等离子体射流清洗设备
[P].
贺代仕
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贺代仕
.
中国专利
:CN208944754U
,2019-06-07
[2]
等离子体射流装置
[P].
卢新培
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卢新培
;
熊青
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熊青
;
熊紫兰
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熊紫兰
;
鲜于斌
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鲜于斌
;
潘垣
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潘垣
.
中国专利
:CN201303456Y
,2009-09-02
[3]
等离子体射流装置
[P].
卢新培
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卢新培
;
熊青
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熊青
;
熊紫兰
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熊紫兰
;
鲜于斌
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鲜于斌
;
潘垣
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潘垣
.
中国专利
:CN101426327B
,2009-05-06
[4]
等离子体射流装置
[P].
占建英
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占建英
;
周如
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周如
;
张俊
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张俊
;
张慧文
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张慧文
;
元淼
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元淼
.
中国专利
:CN106856644A
,2017-06-16
[5]
大气压等离子体射流杀菌消毒装置
[P].
向学梅
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向学梅
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卢浩
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卢浩
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李敏
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李敏
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巨俊
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巨俊
;
庞磊
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庞磊
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郑艳玲
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郑艳玲
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宋方苗
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宋方苗
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胡家栋
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胡家栋
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鲁志松
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鲁志松
;
乔琰
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乔琰
;
万良淏
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万良淏
.
中国专利
:CN217184695U
,2022-08-16
[6]
平面射流等离子体产生装置
[P].
刘彦明
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刘彦明
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谢楷
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谢楷
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李小平
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李小平
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赵良
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赵良
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艾伟
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艾伟
;
付强新
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付强新
.
中国专利
:CN102781157B
,2012-11-14
[7]
等离子体射流装置及等离子体切割系统
[P].
李海龙
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李海龙
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吴丹阳
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吴丹阳
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王彬
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王彬
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殷勇
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殷勇
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蒙林
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蒙林
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师嘉豪
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师嘉豪
.
中国专利
:CN113068295A
,2021-07-02
[8]
一种大气压等离子体射流装置
[P].
卢新培
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卢新培
;
李志宇
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李志宇
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刘嘉林
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刘嘉林
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聂兰兰
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聂兰兰
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中国专利
:CN110913550B
,2020-03-24
[9]
等离子体射流装置及抑制环氧树脂表面电荷积聚的方法
[P].
邵涛
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邵涛
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海彬
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海彬
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王瑞雪
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王瑞雪
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任成燕
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任成燕
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章程
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章程
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严萍
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严萍
.
中国专利
:CN106132056A
,2016-11-16
[10]
等离子体射流保护罩
[P].
罗永春
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罗永春
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中国专利
:CN102618815A
,2012-08-01
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