基板处理装置以及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480011736.0

申请日：

2024-02-05

公开(公告)号：

CN120660175A

公开(公告)日：

2025-09-16

发明(设计)人：

岩尾通矩加门宏章岩畑翔太

申请人：

株式会社斯库林集团

申请人地址：

日本京都府

IPC主分类号：

H01L21/304

IPC分类号：

H01L21/306

代理机构：

隆天知识产权代理有限公司 72003

代理人：

马长玉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-09-16	公开	公开
2025-10-03	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/304申请日:20240205

共 50 条

[1]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

真柄启二 ;

桥诘彰夫 ;

太田乔 .

中国专利 :CN102437050A ,2012-05-02

[2]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

堀越章 ;

中村昭平 ;

高辻茂 ;

河野元宏 ;

木村贵弘 ;

小林健司 .

日本专利 :CN112631089B ,2025-05-13

[3]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

堀越章 ;

中村昭平 ;

高辻茂 ;

河野元宏 ;

木村贵弘 ;

小林健司 .

中国专利 :CN112631089A ,2021-04-09

[4]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

平瀬圭太 ;

小仓康司 ;

吉田博司 ;

永井高志 ;

野中纯 ;

本田拓巳 .

中国专利 :CN113725121A ,2021-11-30

[5]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

樱井宏纪 ;

后藤大辅 ;

绪方信博 ;

桥本佑介 ;

水口将辉 ;

许彦瑞 .

中国专利 :CN114420551A ,2022-04-29

[6]

基板处理装置以及使用基板处理装置的基板处理方法 [P].

日野出大辉 ;

太田乔 ;

西东和英 ;

山田邦夫 .

中国专利 :CN104934350A ,2015-09-23

[7]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

佐佐木悠太 ;

塙洋祐 ;

滩原壮一 ;

上田大 ;

北川广明 ;

奥村勝弥 .

中国专利 :CN107481954A ,2017-12-15

[8]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

宫川纱希 ;

佐藤雅伸 ;

堀口博司 .

日本专利 :CN117941035A ,2024-04-26

[9]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

泉昭 ;

佐野谦一 .

中国专利 :CN1794430A ,2006-06-28

[10]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

合田和树 ;

岩田敬次 ;

松永恭幸 ;

高桥朋宏 .

中国专利 :CN114068358A ,2022-02-18

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