基板处理方法以及基板处理装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010877538.6

申请日：

2020-08-27

公开(公告)号：

CN112631089B

公开(公告)日：

2025-05-13

发明(设计)人：

堀越章中村昭平高辻茂河野元宏木村贵弘小林健司

申请人：

株式会社斯库林集团

申请人地址：

日本京都府京都市上京区堀川通寺之内上4丁目天神北町1番地之1

IPC主分类号：

G03F7/42

IPC分类号：

H01L21/027 H01L21/687 H01J37/32

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

杨文娟;臧建明

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-13	授权	授权

共 50 条

[1]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

堀越章 ;

中村昭平 ;

高辻茂 ;

河野元宏 ;

木村贵弘 ;

小林健司 .

中国专利 :CN112631089A ,2021-04-09

[2]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

柴田秀一 ;

石津岳明 ;

藤田直人 .

日本专利 :CN117916861A ,2024-04-19

[3]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

岩尾通矩 ;

加门宏章 ;

岩畑翔太 .

日本专利 :CN120660175A ,2025-09-16

[4]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

佐佐木悠太 ;

塙洋祐 ;

滩原壮一 ;

上田大 ;

北川广明 ;

奥村勝弥 .

中国专利 :CN107481954A ,2017-12-15

[5]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

宫川纱希 ;

佐藤雅伸 ;

堀口博司 .

日本专利 :CN117941035A ,2024-04-26

[6]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

泉昭 ;

佐野谦一 .

中国专利 :CN1794430A ,2006-06-28

[7]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

合田和树 ;

岩田敬次 ;

松永恭幸 ;

高桥朋宏 .

中国专利 :CN114068358A ,2022-02-18

[8]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

藤原友则 ;

柴山宣之 ;

吉田幸史 ;

柴田哲弥 ;

仲野彰义 .

中国专利 :CN104992912A ,2015-10-21

[9]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

小林信雄 ;

古川长树 ;

山崎克弘 ;

齐藤裕树 .

中国专利 :CN107275257A ,2017-10-20

[10]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

仓崎浩二 ;

枝光建治 ;

佐藤昌治 ;

武知圭 ;

松村刚至 ;

内田博章 ;

山本滋 ;

高桥朋宏 ;

岩谷浩伸 ;

杉冈真治 .

中国专利 :CN108666235A ,2018-10-16

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