基板处理装置以及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710200801.6

申请日：

2017-03-30

公开(公告)号：

CN107275257A

公开(公告)日：

2017-10-20

发明(设计)人：

小林信雄古川长树山崎克弘齐藤裕树

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

徐殿军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-11-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20170330
2017-10-20	公开	公开
2020-08-14	授权	授权

共 50 条

[1]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

佐佐木悠太 ;

塙洋祐 ;

滩原壮一 ;

上田大 ;

北川广明 ;

奥村勝弥 .

中国专利 :CN107481954A ,2017-12-15

[2]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

宫川纱希 ;

佐藤雅伸 ;

堀口博司 .

日本专利 :CN117941035A ,2024-04-26

[3]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

泉昭 ;

佐野谦一 .

中国专利 :CN1794430A ,2006-06-28

[4]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

合田和树 ;

岩田敬次 ;

松永恭幸 ;

高桥朋宏 .

中国专利 :CN114068358A ,2022-02-18

[5]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

藤原友则 ;

柴山宣之 ;

吉田幸史 ;

柴田哲弥 ;

仲野彰义 .

中国专利 :CN104992912A ,2015-10-21

[6]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

仓崎浩二 ;

枝光建治 ;

佐藤昌治 ;

武知圭 ;

松村刚至 ;

内田博章 ;

山本滋 ;

高桥朋宏 ;

岩谷浩伸 ;

杉冈真治 .

中国专利 :CN108666235A ,2018-10-16

[7]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

菅原雄二 ;

东克荣 ;

竹松佑介 ;

温井宏树 ;

青木拓 .

中国专利 :CN110262198A ,2019-09-20

[8]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

尾辻正幸 .

中国专利 :CN108305842B ,2018-07-20

[9]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

金光洙 .

中国专利 :CN104128292A ,2014-11-05

[10]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

犹原英司 ;

阿部博史 ;

高桥光和 ;

角间央章 .

中国专利 :CN112640056A ,2021-04-09

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