用于监控工艺设备的方法和工艺设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080043106.3

申请日：

2020-10-05

公开(公告)号：

CN114127645B

公开(公告)日：

2025-09-23

发明(设计)人：

M·科赫奥利弗·斯拉比

申请人：

林德有限责任公司

申请人地址：

德国普拉赫

IPC主分类号：

G05B17/02

IPC分类号：

F25J3/04

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

王琼

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-09-23	授权	授权

共 50 条

[1]

用于监控工艺设备的方法和工艺设备 [P].

M·科赫 ;

奥利弗·斯拉比 .

中国专利 :CN114127645A ,2022-03-01

[2]

工艺设备 [P].

周长生 .

中国专利 :CN217983395U ,2022-12-06

[3]

工艺设备 [P].

胡磊 ;

左敏 ;

彭锦波 ;

李翔 .

中国专利 :CN223607371U ,2025-11-28

[4]

用于监视工艺设备的方法和设备 [P].

M·J·马斯洛 ;

J·C·H·姆肯斯 ;

P·滕伯格 ;

F·范德马斯特 ;

J-W·杰姆尼克 ;

L·瑞亚南 .

中国专利 :CN109716236A ,2019-05-03

[5]

用于评估工艺设备的资源消耗量的方法和工艺设备 [P].

H·拉斯普 ;

J·汉客 ;

J·伯纳 ;

M·胡梅尔 ;

M·卡斯特尔 ;

西蒙·阿尔特 ;

迪特马尔·威兰 .

德国专利 :CN118251637A ,2024-06-25

[6]

半导体工艺设备的控制方法和半导体工艺设备 [P].

徐昕 ;

王兆祥 ;

桂智谦 ;

涂乐义 ;

梁洁 ;

仲凯 ;

方子豪 ;

曹天俊 ;

谭小龙 .

中国专利 :CN120149215B ,2025-07-18

[7]

半导体工艺设备的控制方法和半导体工艺设备 [P].

张威 .

中国专利 :CN114823429A ,2022-07-29

[8]

半导体工艺设备的控制方法和半导体工艺设备 [P].

徐昕 ;

王兆祥 ;

桂智谦 ;

涂乐义 ;

梁洁 ;

仲凯 ;

方子豪 ;

曹天俊 ;

谭小龙 .

中国专利 :CN120149215A ,2025-06-13

[9]

用于半导体工艺设备的软件控制方法和半导体工艺设备 [P].

狄艳 ;

褚瑞 .

中国专利 :CN111782358A ,2020-10-16

[10]

用于清洁工艺设备的方法和原位清洁装置以及工艺设备 [P].

C·博登施泰纳 ;

V·克诺奇 ;

于尔根·泽尔纳 ;

伊娃·拜尔勒 .

中国专利 :CN110385315A ,2019-10-29

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