一种光刻机曝光剂量控制系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310103021.5

申请日：

2023-02-13

公开(公告)号：

CN116107174B

公开(公告)日：

2025-09-23

发明(设计)人：

陈浩然李立孟张友宝马兴华童长青雷波涛

申请人：

上海镭望光学科技有限公司

申请人地址：

201821 上海市嘉定区叶城路1288号6幢J

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317

代理人：

刘翠;张宁展

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-20	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20230213
2025-09-23	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻机曝光剂量控制方法 [P].

张俊 ;

张志钢 ;

罗闻 .

中国专利 :CN102081307B ,2011-06-01

[2]

光刻机的曝光剂量控制架构 [P].

张琪 ;

符友银 ;

陈钰思阳 ;

麻雨含 .

中国专利 :CN118818921A ,2024-10-22

[3]

直写式光刻机曝光控制系统 [P].

王正宏 .

中国专利 :CN201194067Y ,2009-02-11

[4]

一种光源曝光剂量控制系统及控制方法 [P].

李平欣 ;

李蒙 ;

蒋志勇 ;

马鹏川 .

中国专利 :CN108121163A ,2018-06-05

[5]

一种基于曝光剂量控制系统的曝光剂量控制方法 [P].

刘玉倩 ;

张炳寅 ;

张利云 ;

高繁星 .

中国专利 :CN114578658A ,2022-06-03

[6]

一种分布式曝光剂量控制系统及方法 [P].

孙智超 ;

罗闻 ;

张曦 .

中国专利 :CN102914945A ,2013-02-06

[7]

剂量控制系统 [P].

S·W·麦克罗根 ;

O·F·J·努德曼 .

:CN120435687A ,2025-08-05

[8]

光刻机控制系统和方法 [P].

王伟 ;

李蒙 .

中国专利 :CN110874020A ,2020-03-10

[9]

光刻机曝光系统 [P].

胡钰 .

中国专利 :CN201194068Y ,2009-02-11

[10]

光刻机曝光系统 [P].

胡钰 .

中国专利 :CN101231475A ,2008-07-30

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