光刻机的曝光剂量控制架构

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411215554.3

申请日：

2024-08-30

公开(公告)号：

CN118818921A

公开(公告)日：

2024-10-22

发明(设计)人：

张琪符友银陈钰思阳麻雨含

申请人：

新毅东（北京）科技有限公司

申请人地址：

100176 北京市大兴区北京经济技术开发区荣昌东街甲5号3号楼1层101-8

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

北京唐颂永信知识产权代理有限公司 11755

代理人：

刘伟

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-08	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20240830
2024-10-22	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻机曝光剂量控制方法 [P].

张俊 ;

张志钢 ;

罗闻 .

中国专利 :CN102081307B ,2011-06-01

[2]

一种光刻机曝光剂量控制系统 [P].

陈浩然 ;

李立孟 ;

张友宝 ;

马兴华 ;

童长青 ;

雷波涛 .

中国专利 :CN116107174B ,2025-09-23

[3]

快门装置及其控制方法、光刻机及其曝光剂量控制方法 [P].

蒋志勇 ;

章富平 ;

王彦飞 .

中国专利 :CN108345157B ,2018-07-31

[4]

光刻机曝光系统 [P].

胡钰 .

中国专利 :CN201194068Y ,2009-02-11

[5]

光刻机曝光系统 [P].

胡钰 .

中国专利 :CN101231475A ,2008-07-30

[6]

光刻机的微环境控制架构 [P].

张琪 ;

符友银 ;

陈龙 ;

陈钰思阳 .

中国专利 :CN119439646A ,2025-02-14

[7]

直写式光刻机曝光控制系统 [P].

王正宏 .

中国专利 :CN201194067Y ,2009-02-11

[8]

控制直写光刻机曝光的方法、装置和光刻机 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN111367147B ,2020-07-03

[9]

光刻机曝光成像装置 [P].

伍强 .

中国专利 :CN100524039C ,2008-03-05

[10]

光刻机曝光方法 [P].

黄玮 .

中国专利 :CN102540731B ,2012-07-04

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