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光刻机的微环境控制架构

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411815119.4
申请日：
2024-12-10
公开(公告)号：
CN119439646A
公开(公告)日：
2025-02-14
发明(设计)人：
张琪 符友银 陈龙 陈钰思阳
申请人：
上海新毅东半导体科技有限公司
申请人地址：
201708 上海市青浦区华新镇北青公路3888号6幢
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
代理机构：
北京唐颂永信知识产权代理有限公司 11755
代理人：
刘伟
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-03-04 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20241210
2025-02-14 公开 公开
共 50 条
[1]
光刻机的曝光剂量控制架构 [P]. 
张琪 ;
符友银 ;
陈钰思阳 ;
麻雨含 .
中国专利 :CN118818921A ,2024-10-22
[2]
光刻机的污染控制系统、方法和光刻机 [P]. 
王魁波 ;
吴晓斌 ;
沙鹏飞 ;
罗艳 ;
谢婉露 ;
李慧 ;
韩晓泉 .
中国专利 :CN114280893A ,2022-04-05
[3]
直写式光刻机曝光控制系统 [P]. 
王正宏 .
中国专利 :CN201194067Y ,2009-02-11
[4]
光刻机可变狭缝的控制方法、系统以及光刻机 [P]. 
张琪 ;
符友银 ;
金建 .
中国专利 :CN120276220A ,2025-07-08
[5]
光刻机可变狭缝的控制方法、系统以及光刻机 [P]. 
张琪 ;
符友银 ;
金建 .
中国专利 :CN120276220B ,2025-09-09
[6]
光刻机及光刻机污染控制方法 [P]. 
王魁波 ;
吴晓斌 ;
罗艳 ;
谢婉露 .
中国专利 :CN119781255A ,2025-04-08
[7]
控制直写光刻机曝光的方法、装置和光刻机 [P]. 
赵美云 .
中国专利 :CN111367147B ,2020-07-03
[8]
流体管件、微环境控制系统及光刻机 [P]. 
吴飞 .
中国专利 :CN215219423U ,2021-12-17
[9]
光刻机及光刻机的压板装置 [P]. 
胡刚 ;
陈东 ;
项宗齐 .
中国专利 :CN214375824U ,2021-10-08
[10]
控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机 [P]. 
赵美云 .
中国专利 :CN113934115A ,2022-01-14
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