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光刻机可变狭缝的控制方法、系统以及光刻机
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510780757.5
申请日
:
2025-06-12
公开(公告)号
:
CN120276220B
公开(公告)日
:
2025-09-09
发明(设计)人
:
张琪
符友银
金建
申请人
:
新毅东(北京)科技有限公司
申请人地址
:
100176 北京市大兴区北京经济技术开发区荣昌东街甲5号3号楼1层101-8
IPC主分类号
:
G03F7/20
IPC分类号
:
H02P5/46
代理机构
:
北京超凡宏宇知识产权代理有限公司 11463
代理人
:
高晓艳
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-09-09
授权
授权
2025-07-08
公开
公开
2025-07-25
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20250612
共 50 条
[1]
光刻机可变狭缝的控制方法、系统以及光刻机
[P].
张琪
论文数:
0
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0
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0
机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
张琪
;
符友银
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机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
符友银
;
金建
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0
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0
机构:
新毅东(北京)科技有限公司
新毅东(北京)科技有限公司
金建
.
中国专利
:CN120276220A
,2025-07-08
[2]
光刻机可变狭缝最佳位置的测量方法
[P].
宋平
论文数:
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0
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宋平
;
马明英
论文数:
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0
马明英
.
中国专利
:CN103163741B
,2013-06-19
[3]
光刻机的污染控制系统、方法和光刻机
[P].
王魁波
论文数:
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王魁波
;
吴晓斌
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吴晓斌
;
沙鹏飞
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沙鹏飞
;
罗艳
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罗艳
;
谢婉露
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0
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谢婉露
;
李慧
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李慧
;
韩晓泉
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0
韩晓泉
.
中国专利
:CN114280893A
,2022-04-05
[4]
光刻机及光刻机污染控制方法
[P].
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机构:
王魁波
;
论文数:
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机构:
吴晓斌
;
论文数:
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机构:
罗艳
;
论文数:
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机构:
谢婉露
.
中国专利
:CN119781255A
,2025-04-08
[5]
光刻机照明系统及光刻机
[P].
金成昱
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金成昱
;
金帅炯
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金帅炯
;
梁贤石
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梁贤石
;
丁明正
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丁明正
;
贺晓彬
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贺晓彬
;
刘强
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刘强
;
刘金彪
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刘金彪
;
白国斌
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白国斌
.
中国专利
:CN114675494A
,2022-06-28
[6]
光刻机的检测系统及其检测方法、光刻机
[P].
王立君
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0
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机构:
长鑫新桥存储技术有限公司
长鑫新桥存储技术有限公司
王立君
.
中国专利
:CN120044766B
,2025-09-19
[7]
光刻机的检测系统及其检测方法、光刻机
[P].
王立君
论文数:
0
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机构:
长鑫新桥存储技术有限公司
长鑫新桥存储技术有限公司
王立君
.
中国专利
:CN120044766A
,2025-05-27
[8]
光刻机
[P].
徐程
论文数:
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0
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徐程
;
宋兴龙
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0
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宋兴龙
.
中国专利
:CN302290339S
,2013-01-16
[9]
光刻机
[P].
郭耸
论文数:
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郭耸
;
徐程
论文数:
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0
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0
徐程
.
中国专利
:CN302441447S
,2013-05-22
[10]
光刻机
[P].
林生财
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林生财
;
刘振辉
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刘振辉
;
王胜利
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王胜利
.
中国专利
:CN211123620U
,2020-07-28
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