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负型抗蚀剂图案形成方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510255129.5
申请日：
2025-03-05
公开(公告)号：
CN120610440A
公开(公告)日：
2025-09-09
发明(设计)人：
草间理志 菊地骏 大桥正树
申请人：
信越化学工业株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
G03F7/004
IPC分类号：
G03F7/20 G03F7/30 G03F7/32
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇;李茂家
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-09-26 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20250305
2025-09-09 公开 公开
共 50 条
[1]
负型抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
草间理志 ;
菊地骏 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN120610442A ,2025-09-09
[2]
抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
菊地骏 ;
大山皓介 ;
草间理志 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN121115404A ,2025-12-12
[3]
抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
菊地骏 ;
草间理志 ;
大山皓介 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN120779665A ,2025-10-14
[4]
抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P]. 
菊地骏 ;
大山皓介 ;
草间理志 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN121115405A ,2025-12-12
[5]
抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
菊地骏 ;
草间理志 ;
大山皓介 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN120779666A ,2025-10-14
[6]
负型图案形成方法及抗蚀剂图案 [P]. 
加藤启太 ;
藤井佳奈 ;
上村聪 ;
岩户薰 .
中国专利 :CN103229102A ,2013-07-31
[7]
抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P]. 
菊地骏 ;
草间理志 ;
半田龙之介 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN120406047A ,2025-08-01
[8]
抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P]. 
草间理志 ;
大山皓介 ;
菊地骏 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN120779667A ,2025-10-14
[9]
抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P]. 
大桥正树 ;
橘诚一郎 ;
菊地骏 ;
半田龙之介 .
日本专利 :CN118259547A ,2024-06-28
[10]
化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
增永惠一 ;
渡边聪 ;
小竹正晃 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN114924463B ,2024-09-24
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