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抗蚀剂图案形成方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510397817.5
申请日：
2025-04-01
公开(公告)号：
CN120779665A
公开(公告)日：
2025-10-14
发明(设计)人：
菊地骏 草间理志 大山皓介 大桥正树
申请人：
信越化学工业株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
G03F7/004
IPC分类号：
G03F7/20
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇;李茂家
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-10-14 公开 公开
2025-10-31 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20250401
共 50 条
[1]
抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
菊地骏 ;
草间理志 ;
大山皓介 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN120779666A ,2025-10-14
[2]
抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
菊地骏 ;
大山皓介 ;
草间理志 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN121115404A ,2025-12-12
[3]
抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P]. 
草间理志 ;
大山皓介 ;
菊地骏 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN120779667A ,2025-10-14
[4]
抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P]. 
菊地骏 ;
大山皓介 ;
草间理志 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN121115405A ,2025-12-12
[5]
抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P]. 
大桥正树 ;
橘诚一郎 ;
菊地骏 ;
半田龙之介 .
日本专利 :CN118259547A ,2024-06-28
[6]
负型抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
草间理志 ;
菊地骏 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN120610442A ,2025-09-09
[7]
负型抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
草间理志 ;
菊地骏 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN120610440A ,2025-09-09
[8]
抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P]. 
菊地骏 ;
草间理志 ;
半田龙之介 ;
大桥正树 .
日本专利 :CN120406047A ,2025-08-01
[9]
抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P]. 
大山皓介 ;
草间理志 ;
大桥正树 ;
菊地骏 .
日本专利 :CN120779664A ,2025-10-14
[10]
抗蚀剂组成物、叠层体、及图案形成方法 [P]. 
大桥正树 ;
半田龙之介 ;
菊地骏 ;
草间理志 ;
大山皓介 .
日本专利 :CN120652737A ,2025-09-16
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