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加热盘、薄膜沉积设备及薄膜沉积方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202311002777.7
申请日：
2023-08-09
公开(公告)号：
CN116970930B
公开(公告)日：
2025-09-05
发明(设计)人：
刘振
吴凤丽
申请人：
拓荆科技(上海)有限公司
申请人地址：
201306 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区鸿音路1211号10幢304室
IPC主分类号：
C23C16/46
IPC分类号：
H01L21/67
H01L21/02
C23C16/44
代理机构：
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人：
徐迪
法律状态：
授权
国省代码：
上海市
市辖区
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-09-05 | 授权 | 授权 |