抗蚀剂组合物及图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410310926.4

申请日：

2024-03-19

公开(公告)号：

CN120669474A

公开(公告)日：

2025-09-19

发明(设计)人：

苏敏光张季平高越康靖陈涛

申请人：

湖北鼎龙控股股份有限公司鼎龙（潜江）新材料有限公司湖北鼎龙芯盛科技有限公司

申请人地址：

430057 湖北省武汉市蔡甸区东荆河路1号

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

河南省郑州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-10	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20240319
2025-09-19	公开	公开

共 50 条

[1]

抗蚀剂组合物及图案形成方法 [P].

张斌 ;

栾力冰 ;

关琬婷 .

中国专利 :CN117631445B ,2024-07-26

[2]

抗蚀剂组合物及图案形成方法 [P].

张斌 ;

栾力冰 ;

关琬婷 .

中国专利 :CN117631445A ,2024-03-01

[3]

抗蚀剂组合物及图案形成方法 [P].

李兆明 ;

王先进 ;

解德升 ;

余齐顺 ;

万海星 ;

高越 .

中国专利 :CN119335811A ,2025-01-21

[4]

抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

染谷康夫 ;

大星友希 .

日本专利 :CN120936951A ,2025-11-11

[5]

抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法 [P].

熊田信次 ;

前盛谕 ;

新井雅俊 ;

盐野大寿 .

中国专利 :CN102621807A ,2012-08-01

[6]

抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

丹野一石 ;

中村刚 ;

赵恩率 .

日本专利 :CN110275395B ,2024-05-17

[7]

抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

丹野一石 ;

中村刚 ;

赵恩率 .

中国专利 :CN110275395A ,2019-09-24

[8]

抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

生川智启 ;

藤崎真史 ;

长峰高志 ;

高木大地 .

中国专利 :CN110192151A ,2019-08-30

[9]

抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P].

白木雄哲 ;

李米静 .

中国专利 :CN114114833A ,2022-03-01

[10]

抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

中村刚 .

中国专利 :CN112673316A ,2021-04-16

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