用于N金属膜沉积的方法、系统和设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510337096.9

申请日：

2025-03-21

公开(公告)号：

CN120700470A

公开(公告)日：

2025-09-26

发明(设计)人：

W·李 S·王 M·萨米耶 B·坎南

申请人：

ASMIP私人控股有限公司

申请人地址：

荷兰阿尔梅勒

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/34 C23C16/32 C23C16/52

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王冉

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-09-26	公开	公开

共 50 条

[1]

金属膜的沉积 [P].

约瑟亚·科林斯 ;

格里芬·约翰·肯尼迪 ;

汉娜·班诺克尔 ;

帕特里克·范克利蒙布特 ;

塞沙萨耶·瓦拉达拉简 .

中国专利 :CN113366144A ,2021-09-07

[2]

用于沉积过渡金属膜的方法、系统和设备 [P].

V·S·N·R·查瓦 ;

E·H·索洛夫 ;

R·B·米利根 ;

M·萨米伊 ;

B·坎南 ;

D·李 ;

R·贾卡拉朱 .

:CN119194396A ,2024-12-27

[3]

用于沉积贫氧金属膜的方法 [P].

C·舒伯特 ;

E-X·平 ;

Y·森扎齐 .

中国专利 :CN104471689A ,2015-03-25

[4]

金属膜的沉积 [P].

尹炳勋 ;

雷伟 ;

柳尚澔 .

中国专利 :CN115003854A ,2022-09-02

[5]

金属膜的沉积 [P].

尹炳勋 ;

雷伟 ;

柳尚澔 .

美国专利 :CN115003854B ,2024-07-23

[6]

金属膜的沉积 [P].

阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯 ;

仓富敬 ;

海克·林 ;

伊诚·陈 ;

张镁 .

中国专利 :CN110024079A ,2019-07-16

[7]

金属膜沉积 [P].

雷雨 ;

李相协 ;

克里斯·帕贝里可 ;

徐翼 ;

河泰泓 ;

唐先民 ;

朴金河 .

中国专利 :CN112105758A ,2020-12-18

[8]

一种金属膜层沉积方法和金属膜层沉积设备 [P].

何中凯 ;

荣延栋 ;

刘菲菲 ;

夏威 ;

丁培军 .

中国专利 :CN109207942A ,2019-01-15

[9]

金属膜的薄膜沉积方法和薄膜沉积装置 [P].

池田太郎 ;

水泽宁 ;

波多野达夫 ;

横山敦 ;

佐久间隆 .

中国专利 :CN101213642A ,2008-07-02

[10]

金属膜的薄膜沉积方法和薄膜沉积装置 [P].

池田太郎 ;

水泽宁 ;

波多野达夫 ;

横山敦 ;

佐久间隆 .

中国专利 :CN101914752B ,2010-12-15

← 1 2 3 4 5 →