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光刻模型的建立方法、装置、设备、介质及产品
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411746154.5
申请日：
2024-11-29
公开(公告)号：
CN119356040B
公开(公告)日：
2025-10-10
发明(设计)人：
管小飞
申请人：
东方晶源微电子科技（上海）有限公司
申请人地址：
201203 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区环湖西二路888号C楼
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
代理机构：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258
代理人：
彭琼
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
上海市
市辖区
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-02-18 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20241129 |
| 2025-01-24 | 公开 | 公开 |
| 2025-10-10 | 授权 | 授权 |