一种光刻模型构建方法、设备、介质及产品

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510293727.1

申请日：

2025-03-12

公开(公告)号：

CN119937256A

公开(公告)日：

2025-05-06

发明(设计)人：

丁明夏轲

申请人：

东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司

申请人地址：

100176 北京市大兴区北京经济技术开发区经海四路156号院12号楼

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258

代理人：

杨永恒

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-06	公开	公开
2025-05-23	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20250312

共 50 条

[1]

光刻仿真模型构建方法、装置、设备、介质及程序产品 [P].

赵昕 ;

甘远 .

中国专利 :CN119270593A ,2025-01-07

[2]

模型构建方法、装置、设备、存储介质及程序产品 [P].

刘亮 ;

孙小娟 ;

王学亮 ;

孙苑苑 ;

樊巧云 ;

庞振 ;

臧紫文 .

中国专利 :CN118094585A ,2024-05-28

[3]

光刻仿真模型构建方法及相关设备 [P].

刘志斌 ;

王航宇 ;

王成瑾 .

中国专利 :CN120233646A ,2025-07-01

[4]

光刻胶模型优化及构建方法和光刻模型构建方法 [P].

姜晓晴 ;

曾辉 .

中国专利 :CN119647405B ,2025-07-25

[5]

光刻胶模型优化及构建方法和光刻模型构建方法 [P].

姜晓晴 ;

曾辉 .

中国专利 :CN119647405A ,2025-03-18

[6]

一种光刻模型构建方法、预测SRAF图形曝光成像的方法和程序产品 [P].

赵宇航 ;

耿浩 ;

刘风亮 ;

高世嘉 .

中国专利 :CN115598934A ,2023-01-13

[7]

一种图像对比模型构建方法、装置、设备、介质及产品 [P].

张柠 ;

潘峰 ;

耿鲁静 ;

郭若沛 ;

陈祖昊 ;

郑继燕 ;

张晓彤 ;

孙林洁 .

中国专利 :CN119600377A ,2025-03-11

[8]

一种风险地图模型构建方法、设备、介质及产品 [P].

吕超 ;

陈丹妮 ;

林云龙 ;

刘昱沛 ;

龚建伟 .

中国专利 :CN118651242A ,2024-09-17

[9]

光刻模型的建立方法、装置、设备、介质及产品 [P].

管小飞 .

中国专利 :CN119356040B ,2025-10-10

[10]

光刻模型的建立方法、装置、设备、介质及产品 [P].

管小飞 .

中国专利 :CN119356040A ,2025-01-24

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