一种用于光刻对准的光栅标记及其对准方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510178520.X

申请日：

2025-02-18

公开(公告)号：

CN119828428B

公开(公告)日：

2025-10-03

发明(设计)人：

夏豪杰许非凡方青林贺洁朱梓旭

申请人：

合肥工业大学

申请人地址：

230009 安徽省合肥市包河区屯溪路193号

IPC主分类号：

G03F9/00

IPC分类号：

代理机构：

合肥市泽信专利代理事务所(普通合伙) 34144

代理人：

方荣肖

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

安徽省合肥市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-02	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 9/00申请日:20250218
2025-10-03	授权	授权
2025-04-15	公开	公开

共 50 条

[1]

一种用于光刻对准的光栅标记及其对准方法 [P].

夏豪杰 ;

许非凡 ;

方青林 ;

贺洁 ;

朱梓旭 .

中国专利 :CN119828428A ,2025-04-15

[2]

一种双光栅对准标记、对准方法 [P].

夏豪杰 ;

许非凡 ;

贺洁 ;

朱梓旭 ;

方青林 .

中国专利 :CN119556540A ,2025-03-04

[3]

用于光刻装置的掩模对准标记及对准方法 [P].

李焕炀 ;

陈勇辉 ;

宋海军 .

中国专利 :CN100587603C ,2008-03-12

[4]

用于光刻装置的对准系统和标记、对准方法以及光刻装置 [P].

徐荣伟 ;

韦学志 ;

杜聚有 .

中国专利 :CN101251725A ,2008-08-27

[5]

用于光刻设备的对准系统、对准方法及增强型对准标记 [P].

李运锋 ;

韦学志 ;

徐荣伟 ;

宋海军 .

中国专利 :CN101303533B ,2008-11-12

[6]

一种压印光刻中凸起光栅对准标记的制作方法 [P].

王莉 ;

丁玉成 ;

周洁 ;

宗学文 ;

魏慧芬 ;

卢秉恒 .

中国专利 :CN102053509A ,2011-05-11

[7]

一种测量倾角和旋转角的光刻对准标记及对准方法 [P].

蒋文波 ;

王画然 ;

周波 ;

卜云 ;

宋潇潇 ;

付钱华 ;

郭奕 ;

黄永茂 .

中国专利 :CN112904682A ,2021-06-04

[8]

一种对准光栅组及其光栅的制作方法 [P].

王亮 ;

秦金 ;

丁立 .

中国专利 :CN105242502B ,2016-01-13

[9]

基于拼接光栅莫尔条纹相位解调的纳米光刻对准方法 [P].

程依光 ;

朱江平 ;

胡松 ;

赵立新 ;

陈磊 ;

刘俊伯 .

中国专利 :CN103838093B ,2014-06-04

[10]

一种虚实光栅对准方法 [P].

陈火耀 ;

刘斌 .

中国专利 :CN117687135A ,2024-03-12

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