一种表面厚度半连续制备的CMP抛光垫生产工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202511250491.X

申请日：

2025-09-03

公开(公告)号：

CN120962536A

公开(公告)日：

2025-11-18

发明(设计)人：

李加海杨惠明孙传东

申请人：

安徽禾臣新材料有限公司

申请人地址：

238200 安徽省马鞍山市和县经济开发区姥下河东路标准化厂房1号厂房

IPC主分类号：

B24B37/22

IPC分类号：

B24B37/24 B24D11/00

代理机构：

安徽省仁正友旭知识产权代理事务所(普通合伙) 34359

代理人：

夏艳

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

安徽省安庆市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-12-05	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/22申请日:20250903
2025-11-18	公开	公开

共 50 条

[1]

一种聚氨酯抛光垫的生产工艺 [P].

张斌 .

中国专利 :CN102672628A ,2012-09-19

[2]

一种硅晶片抛光用多孔吸水CMP抛光垫及其生产工艺 [P].

李加海 ;

杨惠明 ;

孙传东 .

中国专利 :CN118682657A ,2024-09-24

[3]

一种超临界物理发泡粗孔运动器材生产工艺 [P].

王钧铭 .

中国专利 :CN111808354A ,2020-10-23

[4]

一种用于晶体抛光的高磨削力抛光垫及其生产工艺 [P].

李加海 ;

杨惠明 ;

李元祥 .

中国专利 :CN118513990A ,2024-08-20

[5]

一种用于晶体抛光的高磨削力抛光垫及其生产工艺 [P].

李加海 ;

杨惠明 ;

李元祥 .

中国专利 :CN118513990B ,2025-10-17

[6]

一种PVC发泡防滑垫及其生产工艺 [P].

张元桂 ;

童华东 .

中国专利 :CN118580621A ,2024-09-03

[7]

一种用于硅衬底抛光的抛光垫及其生产工艺 [P].

雷龙金 .

中国专利 :CN120155875A ,2025-06-17

[8]

一种CMP抛光垫生产用表面处理设备 [P].

颜杰钦 ;

颜子明 ;

李泽辉 .

中国专利 :CN120901830A ,2025-11-07

[9]

一种CMP抛光垫表面处理工艺 [P].

张雪彦 ;

张莉娟 .

中国专利 :CN109093538A ,2018-12-28

[10]

一种CMP抛光设备用抛光垫 [P].

方明喜 ;

肖学才 ;

常强 .

中国专利 :CN208895849U ,2019-05-24

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