立式清洗研磨装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202511349043.5

申请日：

2025-09-22

公开(公告)号：

CN120839665A

公开(公告)日：

2025-10-28

发明(设计)人：

李锐常朝阳

申请人：

深圳市易天自动化设备股份有限公司

申请人地址：

518000 广东省深圳市宝安区沙井街道沙头社区沙井南环路446号星展广场1栋A座401

IPC主分类号：

B24B37/10

IPC分类号：

B24B37/34 B24B37/30 B24B41/00 B24B55/00 B24B27/00 B24B47/12

代理机构：

深圳市恒和大知识产权代理有限公司 44479

代理人：

邹航

法律状态：

公开

国省代码：

广东省深圳市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-28	公开	公开
2025-11-14	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/10申请日:20250922

共 50 条

[1]

立式研磨装置 [P].

向小月 .

中国专利 :CN302190840S ,2012-11-21

[2]

立式简易研磨装置 [P].

蔡平雄 ;

赵明亮 ;

徐巧娜 ;

殷红忠 ;

李作成 .

中国专利 :CN204034786U ,2014-12-24

[3]

立式强力研磨装置 [P].

方庆红 .

中国专利 :CN204147940U ,2015-02-11

[4]

立式研磨机 [P].

李仪平 ;

沃春耀 .

中国专利 :CN204339534U ,2015-05-20

[5]

研磨清洗装置 [P].

刘海平 .

中国专利 :CN105234803A ,2016-01-13

[6]

清洗研磨装置 [P].

林彬 ;

孙立志 ;

郭策 .

中国专利 :CN206795549U ,2017-12-26

[7]

研磨清洗装置 [P].

刘海平 .

中国专利 :CN205201294U ,2016-05-04

[8]

立式研磨机及研磨方法 [P].

李仪平 ;

沃春耀 .

中国专利 :CN104551975B ,2015-04-29

[9]

一种立式矿渣研磨装置 [P].

符德强 ;

林辉 .

中国专利 :CN222567888U ,2025-03-07

[10]

清洗装置、研磨装置 [P].

宫崎充 ;

藤本友章 ;

深谷孝一 ;

及川文利 ;

井上拓也 .

中国专利 :CN113043158A ,2021-06-29

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