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在基板上沉积材料的方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202080092535.X
申请日：
2020-11-13
公开(公告)号：
CN114930495B
公开(公告)日：
2025-11-04
发明(设计)人：
M.伦德尔 R.格鲁亚
申请人：
戴森技术有限公司
申请人地址：
英国威尔特郡
IPC主分类号：
H01J37/34
IPC分类号：
C23C14/08 C23C14/35 H01M4/131 H01M4/525 H01J37/32
代理机构：
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人：
张邦帅
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-11-04 授权 授权
共 50 条
[1]
在基板上沉积材料的方法 [P]. 
M.伦德尔 ;
R.格鲁亚 .
中国专利 :CN114930495A ,2022-08-19
[2]
在基板上沉积材料的方法 [P]. 
安科·赫尔密西 .
中国专利 :CN114008741A ,2022-02-01
[3]
在基板上沉积材料的方法和被配置用于用对向溅射靶在基板上沉积材料的系统 [P]. 
克里斯托弗·马尔姆斯 ;
托马斯·沃纳·兹巴于尔 .
美国专利 :CN117813672A ,2024-04-02
[4]
在衬底上沉积材料的方法 [P]. 
吹上纪明 ;
凯瑟琳娜·巴比彻 .
中国专利 :CN100490069C ,2006-11-22
[5]
用于在真空沉积工艺中在基板上沉积材料的方法、设备和靶材 [P]. 
细川昭弘 .
中国专利 :CN110312821B ,2019-10-08
[6]
在阶梯结构上沉积材料的方法 [P]. 
小岛健太郎 ;
桑野健 ;
芝英一郎 .
中国专利 :CN114427085A ,2022-05-03
[7]
经构造以用于在基板上溅射沉积的设备、经构造以用于在基板上溅射沉积的系统和用于在基板上溅射沉积的方法 [P]. 
约翰·M·怀特 .
中国专利 :CN108350563A ,2018-07-31
[8]
在基底上沉积材料的系统和方法 [P]. 
瑞克·C·鲍威尔 .
中国专利 :CN101861639A ,2010-10-13
[9]
在基板上沉积材料的方法、被配置为能够连接到用于沉积材料的系统的控制器、和用于沉积材料的系统 [P]. 
托马斯·沃纳·兹巴于尔 .
美国专利 :CN116195027B ,2025-11-04
[10]
沉积材料的方法 [P]. 
M.伦德尔 ;
R.格鲁亚 .
中国专利 :CN114945701A ,2022-08-26
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