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一种磁力超声辅助多工位剪切增稠抛光装置、抛光液及抛光方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202310367017.X
申请日
:
2023-04-07
公开(公告)号
:
CN116442107B
公开(公告)日
:
2025-11-18
发明(设计)人
:
张振宇
薛自航
李嘉新
余家欣
孟凡宁
周红秀
石春景
冯俊元
申请人
:
大连理工大学
申请人地址
:
116024 辽宁省大连市高新园区凌工路2号
IPC主分类号
:
B24B31/00
IPC分类号
:
B24B31/06
B24B31/12
B24B41/06
B24B41/02
B24B1/04
C09G1/02
代理机构
:
大连东方专利代理有限责任公司 21212
代理人
:
修睿;李洪福
法律状态
:
授权
国省代码
:
河北省 石家庄市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-11-18
授权
授权
共 50 条
[1]
一种剪切增稠抛光液
[P].
郭江
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郭江
;
张鹏飞
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张鹏飞
;
贺增旭
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贺增旭
.
中国专利
:CN111607330A
,2020-09-01
[2]
石英零件细小内孔剪切增稠抛光液及抛光装置和抛光方法
[P].
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机构:
张振宇
;
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机构:
张天宇
;
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机构:
冯俊元
;
周淳琛
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机构:
大连理工大学
大连理工大学
周淳琛
;
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机构:
孟凡宁
.
中国专利
:CN115741446B
,2025-01-14
[3]
多相剪切增稠抛光液及其制备方法
[P].
胡自化
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胡自化
;
张舒哲
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张舒哲
;
李鑫浩
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李鑫浩
;
封龙龙
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封龙龙
;
秦长江
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秦长江
;
陈小告
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陈小告
.
中国专利
:CN115433523A
,2022-12-06
[4]
适用WC-Co合金的化学增强剪切增稠抛光液及抛光方法
[P].
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机构:
吕冰海
;
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机构:
柯明峰
;
赵梁
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机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
赵梁
;
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机构:
王佳焕
;
陈宇扬
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浙江工业大学
浙江工业大学
陈宇扬
;
袁亨美
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机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
袁亨美
.
中国专利
:CN121065703A
,2025-12-05
[5]
剪切增稠抛光装置
[P].
胡自化
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胡自化
;
邹国良
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邹国良
;
邹涵
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邹涵
;
封龙龙
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封龙龙
;
秦长江
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秦长江
;
陈小告
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陈小告
.
中国专利
:CN115533731A
,2022-12-30
[6]
一种电解抛光液、抛光装置及抛光方法
[P].
胡晓文
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胡晓文
;
刘忙仔
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刘忙仔
;
杨俊峰
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杨俊峰
;
赵洪军
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赵洪军
;
刘美红
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刘美红
.
中国专利
:CN109778298A
,2019-05-21
[7]
抛光液及使用该抛光液的抛光方法
[P].
上村哲也
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上村哲也
.
中国专利
:CN101397482A
,2009-04-01
[8]
抛光液及使用该抛光液的抛光方法
[P].
上村哲也
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上村哲也
.
中国专利
:CN101333417A
,2008-12-31
[9]
一种抛光设备、抛光方法及抛光液
[P].
汪承杰
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汪承杰
.
中国专利
:CN110370161A
,2019-10-25
[10]
适用于晶圆加工的剪切增稠抛光装置及抛光方法
[P].
韦民
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机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
韦民
;
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机构:
杭伟
;
邓乾发
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机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
邓乾发
;
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机构:
沈蒙蒙
;
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机构:
梁一微
;
吴凌伟
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机构:
浙江工业大学
浙江工业大学
吴凌伟
.
中国专利
:CN120862549A
,2025-10-31
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