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円偏光照射器、分析装置及び顕微鏡[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230502262
申请日
:
2022-02-09
公开(公告)号
:
JP7749245B2
公开(公告)日
:
2025-10-06
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01N21/19
IPC分类号
:
G01J4/04
G01N21/01
G02B21/00
G02B21/14
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
円偏光照射器、分析装置及び顕微鏡[ja]
[P].
日本专利
:JP6784396B2
,2020-11-11
[2]
光学顕微鏡を用いた分析方法及び分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7760944B2
,2025-10-28
[3]
偏光分析装置、及び偏光分析チップ[ja]
[P].
日本专利
:JP7517648B2
,2024-07-17
[4]
発光体、荷電粒子検出器、電子顕微鏡及び質量分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7557589B1
,2024-09-27
[5]
分光分析装置、分光分析方法、プログラム、記録媒体及び顕微鏡[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019131947A1
,2020-12-24
[6]
分析装置及紫外光照射单元
[P].
牧野瑶子
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
牧野瑶子
;
柴原匡
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
柴原匡
;
佐藤航
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
佐藤航
;
山形俊树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
山形俊树
.
日本专利
:CN120344857A
,2025-07-18
[7]
顕微画像分析装置用管理プログラム及び顕微画像分析装置用管理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017098569A1
,2018-08-30
[8]
顕微画像分析装置用管理プログラム及び顕微画像分析装置用管理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6777096B2
,2020-10-28
[9]
偏光分析装置及び偏光分析装置の制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7174528B2
,2022-11-17
[10]
光源装置、及び照射器[ja]
[P].
日本专利
:JP6131804B2
,2017-05-24
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