一种高透过率金刚石微结构制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311194736.2
申请日
2023-09-15
公开(公告)号
CN117165915B
公开(公告)日
2025-11-14
发明(设计)人
郑森杰 郭可升 杨振怀 刘宏 胡强
申请人
季华实验室
申请人地址
528200 广东省佛山市南海区桂城街道环岛南路28号
IPC主分类号
C23C16/27
IPC分类号
C23C16/511 C23C16/02
代理机构
广东海融科创知识产权代理事务所(普通合伙) 44377
代理人
罗尹清
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种高光学透过率CVD多晶金刚石厚膜的制备方法 [P]. 
曹博伦 ;
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[2]
工件微结构加工方法及金刚石微结构工件 [P]. 
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[3]
一种提高金刚石衬底光学透过率的方法 [P]. 
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[4]
一种金刚石制备装置及其金刚石制备方法 [P]. 
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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曾凡初 ;
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[9]
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[10]
金刚石制备方法 [P]. 
王镇 ;
金鹏 ;
屈鹏霏 ;
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