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功率半导体器件和方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010690684.8
申请日
:
2020-07-17
公开(公告)号
:
CN112242439B
公开(公告)日
:
2025-11-14
发明(设计)人
:
F·D·普菲尔施
申请人
:
英飞凌科技奥地利有限公司
申请人地址
:
奥地利菲拉赫西门子大街2号
IPC主分类号
:
H10D12/00
IPC分类号
:
H10D12/01
H10D8/00
H10D8/01
H10D62/10
H10D30/60
H10D62/60
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
刘书航;申屠伟进
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-11-14
授权
授权
共 50 条
[1]
功率半导体器件和方法
[P].
F·D·普菲尔施
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F·D·普菲尔施
.
中国专利
:CN112242439A
,2021-01-19
[2]
功率半导体器件和方法
[P].
H-J.特斯
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H-J.特斯
;
S.勒施
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S.勒施
;
M.普罗布斯特
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M.普罗布斯特
;
T.里希特
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T.里希特
;
O.施托尔贝克
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O.施托尔贝克
.
中国专利
:CN112086512A
,2020-12-15
[3]
功率半导体器件和方法
[P].
M.普法芬莱纳
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M.普法芬莱纳
;
J-G.鲍尔
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J-G.鲍尔
;
F.D.普菲尔施
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F.D.普菲尔施
;
T.沙伊佩尔
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T.沙伊佩尔
;
K.施拉姆尔
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K.施拉姆尔
.
中国专利
:CN111916489A
,2020-11-10
[4]
功率半导体器件和方法
[P].
H-J.特斯
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机构:
英飞凌科技德累斯顿公司
英飞凌科技德累斯顿公司
H-J.特斯
;
S.勒施
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英飞凌科技德累斯顿公司
英飞凌科技德累斯顿公司
S.勒施
;
M.普罗布斯特
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英飞凌科技德累斯顿公司
英飞凌科技德累斯顿公司
M.普罗布斯特
;
T.里希特
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机构:
英飞凌科技德累斯顿公司
英飞凌科技德累斯顿公司
T.里希特
;
O.施托尔贝克
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机构:
英飞凌科技德累斯顿公司
英飞凌科技德累斯顿公司
O.施托尔贝克
.
德国专利
:CN112086512B
,2024-10-29
[5]
功率半导体器件
[P].
R.巴布尔斯克
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英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
R.巴布尔斯克
;
M.耶利内克
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英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
M.耶利内克
;
F-J.尼德诺斯泰德
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英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
F-J.尼德诺斯泰德
;
F.D.普菲尔施
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英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
F.D.普菲尔施
;
C.P.桑多
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英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
C.P.桑多
;
H-J.舒尔策
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
H-J.舒尔策
.
德国专利
:CN111326575B
,2025-05-13
[6]
功率半导体器件
[P].
R.巴布尔斯克
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R.巴布尔斯克
;
M.耶利内克
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M.耶利内克
;
F-J.尼德诺斯泰德
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F-J.尼德诺斯泰德
;
F.D.普菲尔施
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F.D.普菲尔施
;
C.P.桑多
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C.P.桑多
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H-J.舒尔策
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H-J.舒尔策
.
中国专利
:CN111326575A
,2020-06-23
[7]
功率半导体器件、生产功率半导体器件的方法
[P].
M·佩尔马尔
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英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
M·佩尔马尔
;
A·莫德
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
A·莫德
.
德国专利
:CN121174536A
,2025-12-19
[8]
功率半导体器件和制造功率半导体器件的方法
[P].
C·奎斯特-马特
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纬湃科技有限责任公司
纬湃科技有限责任公司
C·奎斯特-马特
;
D·巴贡
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纬湃科技有限责任公司
D·巴贡
;
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机构:
纬湃科技有限责任公司
纬湃科技有限责任公司
D·沃尔夫
.
德国专利
:CN114450783B
,2025-11-11
[9]
功率半导体器件和制造功率半导体器件的方法
[P].
C·奎斯特-马特
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C·奎斯特-马特
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D·巴贡
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D·巴贡
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D·沃尔夫
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D·沃尔夫
.
中国专利
:CN114450783A
,2022-05-06
[10]
功率半导体器件和生产功率半导体器件的方法
[P].
F·普菲尔施
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
F·普菲尔施
;
H-J·舒尔茨
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
H-J·舒尔茨
;
V·范特里克
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
V·范特里克
.
德国专利
:CN119743963A
,2025-04-01
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