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プラズマ源の出力に関連するインピーダンスの高速制御のためのシステムおよび方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20250522153
申请日
:
2023-10-20
公开(公告)号
:
JP2025536305A
公开(公告)日
:
2025-11-05
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H05H1/46
IPC分类号
:
H03H7/40
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高周波発生器ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6586424B2
,2019-10-02
[2]
高周波発生器ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017516258A
,2017-06-15
[3]
プラズマチャンバ内のプラズマグロー放電を制御するための方法およびシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP2020537811A
,2020-12-24
[4]
インピーダンス整合回路およびプラズマ給電システムおよび動作させるための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023521233A
,2023-05-23
[5]
プラズマ均一性調整のためのマルチ高周波インピーダンス制御[ja]
[P].
日本专利
:JP6623256B2
,2019-12-18
[6]
変調プラズマシステムのためのプラズマ送達システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2022514377A
,2022-02-10
[7]
大型のPECVDチャンバにおけるプラズマ堆積中の基板の局所領域のインピーダンス制御[ja]
[P].
日本专利
:JP2025535916A
,2025-10-30
[8]
プラズマシステムに適用される方法と関連のプラズマシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP2022526863A
,2022-05-26
[9]
プラズマの生成に使用するための方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2023506866A
,2023-02-20
[10]
ダウンリンク送信のための方法、システム、および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2017502611A
,2017-01-19
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