プラズマシステムに適用される方法と関連のプラズマシステム[ja]

被引:0
申请号
JP20210570419
申请日
2020-04-08
公开(公告)号
JP2022526863A
公开(公告)日
2022-05-26
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/3065
IPC分类号
H05H1/46
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[2]
プラズマ処置システム[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015156156A1 ,2017-04-13
[3]
プラズマ評価システム及びプラズマ評価方法[ja] [P]. 
SHINDO TAKAHISA .
日本专利 :JP2025078992A ,2025-05-21
[4]
プラズマ処理装置、電源システム、及びプラズマ処理方法[ja] [P]. 
TAMAMUSHI GEN .
日本专利 :JP2024119243A ,2024-09-03
[5]
誘導結合プラズマ処理システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022542271A ,2022-09-30
[6]
プラズマ処理装置及び電源システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025166257A ,2025-11-05
[7]
プラズマ処理装置及び電源システム[ja] [P]. 
TAKEUCHI TAKAHIRO ;
KOBAYASHI KEN .
日本专利 :JP2024097014A ,2024-07-17
[9]
別個の可搬型容器を有するプラズマシステム[ja] [P]. 
日本专利 :JP2017503572A ,2017-02-02
[10]
プラズマ処理装置及び基板処理システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP7671929B1 ,2025-05-02