学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
プラズマシステムに適用される方法と関連のプラズマシステム[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210570419
申请日
:
2020-04-08
公开(公告)号
:
JP2022526863A
公开(公告)日
:
2022-05-26
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/3065
IPC分类号
:
H05H1/46
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
変調プラズマシステムのためのプラズマ送達システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2022514377A
,2022-02-10
[2]
プラズマ処置システム[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015156156A1
,2017-04-13
[3]
プラズマ評価システム及びプラズマ評価方法[ja]
[P].
SHINDO TAKAHISA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
SHINDO TAKAHISA
.
日本专利
:JP2025078992A
,2025-05-21
[4]
プラズマ処理装置、電源システム、及びプラズマ処理方法[ja]
[P].
TAMAMUSHI GEN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
TAMAMUSHI GEN
.
日本专利
:JP2024119243A
,2024-09-03
[5]
誘導結合プラズマ処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2022542271A
,2022-09-30
[6]
プラズマ処理装置及び電源システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2025166257A
,2025-11-05
[7]
プラズマ処理装置及び電源システム[ja]
[P].
TAKEUCHI TAKAHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
TAKEUCHI TAKAHIRO
;
KOBAYASHI KEN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KOBAYASHI KEN
.
日本专利
:JP2024097014A
,2024-07-17
[8]
高周波プラズマ生成システム及びこれを用いた高周波プラズマ点火装置。[ja]
[P].
日本专利
:JP5873709B2
,2016-03-01
[9]
別個の可搬型容器を有するプラズマシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP2017503572A
,2017-02-02
[10]
プラズマ処理装置及び基板処理システム[ja]
[P].
日本专利
:JP7671929B1
,2025-05-02
←
1
2
3
4
5
→