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半導体装置の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240070499
申请日
:
2024-04-24
公开(公告)号
:
JP2025166440A
公开(公告)日
:
2025-11-06
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/304
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025130445A
,2025-09-08
[2]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015029578A1
,2017-03-02
[3]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019150547A1
,2020-02-06
[4]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6480087B1
,2019-03-06
[5]
半導体装置および半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019093015A1
,2020-04-02
[6]
半導体装置の処理液、処理方法および半導体製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006009003A1
,2008-05-01
[7]
半導体装置の製造方法及びそのための装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009142078A1
,2011-09-29
[8]
半導体用処理液および半導体素子の製造方法[ja]
[P].
SAITO KOHEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKUYAMA CORP
TOKUYAMA CORP
SAITO KOHEI
.
日本专利
:JP2024031955A
,2024-03-07
[9]
半導体洗浄液および半導体洗浄液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7402385B1
,2023-12-20
[10]
半導体集積回路装置およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003049188A1
,2005-04-21
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