含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510648885.4

申请日：

2025-05-20

公开(公告)号：

CN120987989A

公开(公告)日：

2025-11-21

发明(设计)人：

小林直贵长町伸宏石绵健汰郡大佑

申请人：

信越化学工业株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

C07F7/00

IPC分类号：

G03F1/80 C07F7/28 G03F7/004

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

李茂家;李恩华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-21	公开	公开
2025-12-09	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C07F 7/00申请日:20250520

共 50 条

[1]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

石绵健汰 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN120923535A ,2025-11-11

[2]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

郡大佑 ;

石绵健汰 .

日本专利 :CN119528853A ,2025-02-28

[3]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法、及含金属的膜形成用化合物的制造方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

石绵健汰 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN119285667A ,2025-01-10

[4]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

石绵健汰 ;

泷泽彼方 ;

岩森颂平 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN120209023A ,2025-06-27

[5]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

石绵健汰 ;

泷泽彼方 ;

岩森颂平 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN120209021A ,2025-06-27

[6]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

石绵健汰 ;

泷泽彼方 ;

岩森颂平 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN120209022A ,2025-06-27

[7]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P].

长町伸宏 ;

小林直贵 ;

郡大佑 ;

石绵健汰 ;

岩森颂平 .

日本专利 :CN120329340A ,2025-07-18

[8]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN118005930A ,2024-05-10

[9]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN118239972A ,2024-06-25

[10]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

郡大佑 ;

石绵健汰 .

日本专利 :CN118561892A ,2024-08-30

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